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薄膜檢測(cè)	CVD(化學(xué)氣相沉積）	提拉涂膜機(jī)（浸漬、浸潤(rùn)涂覆）	旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)（勻膠機(jī)）	低真空鍍膜機(jī)	化學(xué)氣相沉積設(shè)備（CVD、PECVD、LPCVD等
蒸發(fā)鍍膜設(shè)備	絲印機(jī)	噴霧熱解制膜機(jī)	高真空鍍膜機(jī)

產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱/型號(hào)	產(chǎn)品簡(jiǎn)單介紹
	超聲霧化熱解涂覆薄膜設(shè)備 - MSK-SP-04-LD	MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設(shè)備，它可以**控制溶液化學(xué)計(jì)量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)。采用步進(jìn)電機(jī)和微處理器來(lái)控制容積泵來(lái)**輸送溶劑。一個(gè)超聲波霧化器可以制備厚度較薄的涂層，并且由一步進(jìn)電機(jī)控制可在X軸和Y軸方向移動(dòng)，以確保涂層的均勻性。同時(shí)基底溫度可以進(jìn)行控制，以滿足實(shí)驗(yàn)需要。
	VTC-200P真空涂層機(jī)	VTC-200P真空涂層機(jī)適用于半導(dǎo)體、晶體、光盤(pán)、制版等表面涂覆工藝。本機(jī)可用于強(qiáng)酸、強(qiáng)堿性涂覆溶液的涂膜制備。
	微型吸盤(pán)	微型吸盤(pán)與VTC-100配用，是針對(duì)微小樣片的固定而設(shè)計(jì)。選用上等塑膠制作而成，具有操作方便，吸附穩(wěn)定的優(yōu)點(diǎn)。
	ZKXB-B真空吸筆	ZKXB-B真空吸筆用于在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對(duì)樣件造成損壞?？膳cVTC-100旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)及微型吸盤(pán)配套使用。
	ZKXB-A真空吸筆	ZKXB-A真空吸筆用于在實(shí)驗(yàn)過(guò)程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對(duì)樣件造成損壞。可與VTC-100旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)及微型吸盤(pán)配套使用。
	VTC-50型 旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)	VTC-50型 旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)(原型號(hào)TC-100) 能夠瞬間提供可控高旋轉(zhuǎn)速度，迅速將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜。由于采用鑄鋁結(jié)構(gòu)，在高轉(zhuǎn)速下運(yùn)行平穩(wěn)。
	VTC-200 真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)	VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)主要應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室中薄膜的快速形成；VTC-200 真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)是利用涂層機(jī)的高速旋轉(zhuǎn)，使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻的涂覆在樣品的表面，適合于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)使用。
	VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)	VTC-100真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)主要應(yīng)用于實(shí)驗(yàn)室中薄膜的形成；利用涂層機(jī)的高速旋轉(zhuǎn)，使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻的涂覆在樣品的表面，適合于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)使用。
	5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐	OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設(shè)備專門(mén)實(shí)際針對(duì)于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實(shí)驗(yàn)，其鍍膜面積可達(dá)到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），*大升溫速率為20ºC/s 。采用PID方式進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)，可設(shè)置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口，可配用控
	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300Å，特別適用于SEM樣品的鍍膜。
	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的*簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。
	500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D	VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
	300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀	VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
	OTF-1200X-RTP-II 快速蒸發(fā)管式爐	OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門(mén)針對(duì)于用PVD或CSS法來(lái)制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內(nèi)載樣盤(pán)可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體的頂端和底部，其升溫速率高達(dá)20ºC/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制，控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內(nèi)配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出.
	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀是一款經(jīng)過(guò)CE認(rèn)證的緊湊型等離子鍍膜機(jī)。本機(jī)是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，*簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。它的特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)設(shè)計(jì)安裝了三個(gè)靶。旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)，可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實(shí)驗(yàn)室的各種復(fù)合膜樣品制備，及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。
	帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動(dòng)PECVD	OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng)，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動(dòng)速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐，預(yù)熱爐（作用為使固體原料蒸發(fā)）和德國(guó)進(jìn)口的無(wú)油泵。此款PE-CVD對(duì)于生長(zhǎng)納米線或用CVD，方法來(lái)制作各種薄膜是一款新的探索工具。
	1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)	GSL-1700X-F3LV是一款CE認(rèn)證的管式爐CVD系統(tǒng)，其真空泵采用雙旋片式，混氣系統(tǒng)采用三路浮子供氣系統(tǒng)，*高溫度可以達(dá)到1700°C，真空度可達(dá)到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。
	三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)	三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)是一款通過(guò)CE認(rèn)證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機(jī)械泵，混氣系統(tǒng)為3路浮子混氣系統(tǒng)。此高溫爐燒結(jié)溫度可達(dá)1700℃，真空度可達(dá)到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。
	九通道混氣高真空CVD系統(tǒng)	九通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-80-HVC9 is CE certified 80mm diameter alumina tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases f
	1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-GSL-1700X-4-HVC	GSL-1700X-4-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4英寸，它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成，其*高工作溫度可達(dá)1600℃，極限真空度可達(dá) to 10^-5 torr?；鞖庀到y(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行**的混氣，然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。
	多通道質(zhì)量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)	為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來(lái)促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法（PECVD） 我公司供應(yīng)的產(chǎn)品符合國(guó)家有關(guān)環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購(gòu)商ISO14000環(huán)境體系的要求），不會(huì)造成環(huán)境污染； 該產(chǎn)品符合含采購(gòu)商O(píng)HSMS18000職業(yè)**健康管理體系標(biāo)準(zhǔn)的要求，不會(huì)對(duì)接觸產(chǎn)品的人員健康造成傷害！
	1200℃Mini型 2通道CVD系統(tǒng)	OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式爐，是一款通過(guò)CE認(rèn)證的可開(kāi)啟式管式爐，能使樣品加熱到1200℃。左法蘭上安裝一個(gè)數(shù)字式真空顯示計(jì)，右法蘭上安裝有一KF-25接口，可以與機(jī)械泵相連接（抽速為226L/m）。同時(shí)左法蘭上安裝有φ6.35的卡套接頭，使得爐體可與兩路混氣系統(tǒng)相連接。精-確的控溫系統(tǒng)提供30段升溫和降溫程序，其控溫精-確度為+/- 1 ℃ 。

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