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薄膜檢測	CVD(化學氣相沉積）	提拉涂膜機（浸漬、浸潤涂覆）	旋轉涂膜機（勻膠機）	低真空鍍膜機	化學氣相沉積設備（CVD、PECVD、LPCVD等
蒸發(fā)鍍膜設備	絲印機	噴霧熱解制膜機	高真空鍍膜機

產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱/型號	產(chǎn)品簡單介紹
	超聲霧化熱解涂覆薄膜設備 - MSK-SP-04-LD	MSK-SP-04-LD是一款超聲噴霧熱解設備，它可以**控制溶液化學計量比、霧粒的噴出速度和霧粒大小等參數(shù)。采用步進電機和微處理器來控制容積泵來**輸送溶劑。一個超聲波霧化器可以制備厚度較薄的涂層，并且由一步進電機控制可在X軸和Y軸方向移動，以確保涂層的均勻性。同時基底溫度可以進行控制，以滿足實驗需要。
	VTC-200P真空涂層機	VTC-200P真空涂層機適用于半導體、晶體、光盤、制版等表面涂覆工藝。本機可用于強酸、強堿性涂覆溶液的涂膜制備。
	微型吸盤	微型吸盤與VTC-100配用，是針對微小樣片的固定而設計。選用上等塑膠制作而成，具有操作方便，吸附穩(wěn)定的優(yōu)點。
	ZKXB-B真空吸筆	ZKXB-B真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對樣件造成損壞?？膳cVTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。
	ZKXB-A真空吸筆	ZKXB-A真空吸筆用于在實驗過程中取放平面微小樣件，能夠避免使用鑷子等傳統(tǒng)工具對樣件造成損壞?？膳cVTC-100旋轉涂膜機及微型吸盤配套使用。
	VTC-50型 旋轉涂膜機	VTC-50型 旋轉涂膜機(原型號TC-100) 能夠瞬間提供可控高旋轉速度，迅速將液體、膠狀體等材料在襯底上成膜。由于采用鑄鋁結構，在高轉速下運行平穩(wěn)。
	VTC-200 真空旋轉涂膜機	VTC-200真空旋轉涂膜機主要應用于實驗室中薄膜的快速形成；VTC-200 真空旋轉涂膜機是利用涂層機的高速旋轉，使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻的涂覆在樣品的表面，適合于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)使用。
	VTC-100真空旋轉涂膜機	VTC-100真空旋轉涂膜機主要應用于實驗室中薄膜的形成；利用涂層機的高速旋轉，使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻的涂覆在樣品的表面，適合于大專院校、科研院所、工礦企業(yè)使用。
	5英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐	OTF-1200X-RTP-II-55英寸近距離蒸發(fā)鍍膜爐是一款快速熱處理爐，其爐腔體是一直徑為11英寸的石英管。此款設備專門實際針對于熱蒸發(fā)或CSS（Close Spaced Sublimation）鍍膜實驗，其鍍膜面積可達到5"x5"。此款高溫爐的加熱元件是兩組紅外燈管（分別位于頂部和底部），*大升溫速率為20ºC/s 。采用PID方式進行溫度調節(jié)，可設置30段升降溫程序。儀器面板上安裝有RS485接口，可配用控
	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達50mm，鍍膜厚度可達300Å，特別適用于SEM樣品的鍍膜。
	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。
	500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D	VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗手。
	300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀	VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價廉的實驗幫手。
	OTF-1200X-RTP-II 快速蒸發(fā)管式爐	OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內載樣盤可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體的頂端和底部，其升溫速率高達20ºC/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制，控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導出.
	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀是一款經(jīng)過CE認證的緊湊型等離子鍍膜機。本機是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的，*簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備。它的特別之處是在一個真空室內設計安裝了三個靶。旋轉樣品臺，可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實驗室的各種復合膜樣品制備，及非導體材料實驗電極制作。
	帶有預熱系統(tǒng)的滑動PECVD	OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng)，組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐，預熱爐（作用為使固體原料蒸發(fā)）和德國進口的無油泵。此款PE-CVD對于生長納米線或用CVD，方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。
	1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)	GSL-1700X-F3LV是一款CE認證的管式爐CVD系統(tǒng)，其真空泵采用雙旋片式，混氣系統(tǒng)采用三路浮子供氣系統(tǒng)，*高溫度可以達到1700°C，真空度可達到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。
	三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)	三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)是一款通過CE認證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機械泵，混氣系統(tǒng)為3路浮子混氣系統(tǒng)。此高溫爐燒結溫度可達1700℃，真空度可達到5x10-2 torr ，可以混合1-3種氣體。
	九通道混氣高真空CVD系統(tǒng)	九通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-80-HVC9 is CE certified 80mm diameter alumina tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases f
	1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-GSL-1700X-4-HVC	GSL-1700X-4-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統(tǒng)，其爐管直徑為4英寸，它是由二路質子混氣系統(tǒng)和高真空機組組成，其*高工作溫度可達1600℃，極限真空度可達 to 10^-5 torr?；鞖庀到y(tǒng)可以對兩種氣體進行**的混氣，然后導入到管式爐內部。
	多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)	為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD） 我公司供應的產(chǎn)品符合國家有關環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購商ISO14000環(huán)境體系的要求），不會造成環(huán)境污染； 該產(chǎn)品符合含采購商OHSMS18000職業(yè)**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產(chǎn)品的人員健康造成傷害！
	1200℃Mini型 2通道CVD系統(tǒng)	OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式爐，是一款通過CE認證的可開啟式管式爐，能使樣品加熱到1200℃。左法蘭上安裝一個數(shù)字式真空顯示計，右法蘭上安裝有一KF-25接口，可以與機械泵相連接（抽速為226L/m）。同時左法蘭上安裝有φ6.35的卡套接頭，使得爐體可與兩路混氣系統(tǒng)相連接。精-確的控溫系統(tǒng)提供30段升溫和降溫程序，其控溫精-確度為+/- 1 ℃ 。

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