如果您對(duì)該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱(chēng):
300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號(hào):
VTC-2RF
產(chǎn)品展商:
MTI
產(chǎn)品價(jià)格:
0.00 元
簡(jiǎn)單介紹
VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀的詳細(xì)介紹
技術(shù)參數(shù)
|
輸入電源
|
-
220VAC 50/60Hz, 單相
-
800W (包括真空泵）
|
|
等離子源
|
一個(gè)300W，13.5MHz的射頻電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)
|
|
磁控濺射頭
|
-
一個(gè) 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接
-
靶材尺寸: 直徑為50mm,*大厚度6.35mm
-
一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上（手動(dòng)操作，見(jiàn)圖左3）
-
濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）
-
同時(shí)可選配1英寸濺射頭
   
|
|
真空腔體
|
-
真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高純石英制作
-
密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈制作
-
一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體
-
真空度：10-3 Torr （采用雙極旋片真空泵）
-
10-5 torr （采渦旋分子泵）
|
|
載樣臺(tái)
|
-
載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱
-
載樣臺(tái)尺寸：直徑50mm （*大可放置2英寸的基片）
-
旋轉(zhuǎn)速度：1 - 10 rpm
-
樣品的*高加熱溫度為700℃，控溫精度+/- 1.0℃
|
|
真空泵
|
可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國(guó)制作的分子泵系統(tǒng)
 
|
|
薄膜測(cè)厚儀
|
-
一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
-
LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
 
|
|
外形尺寸
|
|
|
質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證
|
-
一年質(zhì)保期，終生維護(hù)
-
CE認(rèn)證
|
|
使用注意事項(xiàng)
|
-
這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度
-
為了較好地排出真空腔體中的氧氣，建議用5%H2+95 %N2對(duì)真空腔體清洗2-3次，可將真空腔體中的氧含量減少到10PPM
-
請(qǐng)用純度大于5N的Ar來(lái)進(jìn)行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)
  
|
- 溫馨提示：為規(guī)避購(gòu)買(mǎi)風(fēng)險(xiǎn)，建議您在購(gòu)買(mǎi)前務(wù)必確認(rèn)供應(yīng)商資質(zhì)與產(chǎn)品質(zhì)量。
- 免責(zé)申明：以上內(nèi)容為注冊(cè)會(huì)員自行發(fā)布，若信息的真實(shí)性、合法性存在爭(zhēng)議，平臺(tái)將會(huì)監(jiān)督協(xié)助處理，歡迎舉報(bào)
300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀相關(guān)產(chǎn)品
產(chǎn)品搜索
聯(lián)系方式
產(chǎn)品目錄
Copyright@ 2003-2025
深圳市科晶智達(dá)科技有限公司版權(quán)所有