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產(chǎn)品名稱:
300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀
產(chǎn)品型號:
VTC-2RF
產(chǎn)品展商:
MTI
產(chǎn)品價(jià)格:
0.00 元
簡單介紹
VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀的詳細(xì)介紹
技術(shù)參數(shù)
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輸入電源
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220VAC 50/60Hz, 單相
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800W (包括真空泵）
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等離子源
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一個(gè)300W，13.5MHz的射頻電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)
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磁控濺射頭
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一個(gè) 2英寸磁控濺射頭（帶有水冷夾層），采用快速接頭與真空腔體相連接
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靶材尺寸: 直徑為50mm,*大厚度6.35mm
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一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上（手動(dòng)操作，見圖左3）
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濺射頭所需冷卻水：流速10ml/min（儀器中配有一臺流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī)）
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同時(shí)可選配1英寸濺射頭
   
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真空腔體
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真空腔體：160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H，采用高純石英制作
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密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作，采用硅膠密封圈制作
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一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體，以屏蔽等離子體
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真空度：10-3 Torr （采用雙極旋片真空泵）
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10-5 torr （采渦旋分子泵）
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載樣臺
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載樣臺可旋轉(zhuǎn)（為了制膜更加均勻）并可加熱
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載樣臺尺寸：直徑50mm （*大可放置2英寸的基片）
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旋轉(zhuǎn)速度：1 - 10 rpm
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樣品的*高加熱溫度為700℃，控溫精度+/- 1.0℃
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真空泵
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可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國制作的分子泵系統(tǒng)
 
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薄膜測厚儀
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一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測厚儀安裝在儀器上，可實(shí)時(shí)監(jiān)控薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
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LED顯示屏顯示，同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
 
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外形尺寸
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質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證
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一年質(zhì)保期，終生維護(hù)
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CE認(rèn)證
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使用注意事項(xiàng)
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這款2英寸的射頻濺射鍍膜儀主要是用于在單晶基片上制備氧化物膜，所以并不需要太高的真空度
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為了較好地排出真空腔體中的氧氣，建議用5%H2+95 %N2對真空腔體清洗2-3次，可將真空腔體中的氧含量減少到10PPM
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請用純度大于5N的Ar來進(jìn)行等離子濺射，甚至5N的Ar中也含有10- 100 ppm的氧和水，所以建議將鋼瓶中的惰性氣體通過凈化系統(tǒng)過后，再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi)
  
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