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產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱/型號	產(chǎn)品簡單介紹
	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀	GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300Å，特別適用于SEM樣品的鍍膜。
	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀	GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的*簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。
	500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D	VTC-2DC是一款小型的直流（DC）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如500W（600V）的DC電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
	300W射頻等離子磁控濺射鍍膜儀	VTC-2RF是一款小型的射頻（RF）等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng)，系統(tǒng)中包含了所有所需的配件，如300W（13.5MHz）的RF電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜，它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)幫手。
	OTF-1200X-RTP-II 快速蒸發(fā)管式爐	OTF-1200X-RTP-II是一款快速蒸發(fā)管式爐，專門針對于用PVD或CSS法來制作薄膜。此款管式爐爐管直徑為11" OD，爐管內(nèi)載樣盤可放置3" 的圓形或2"x2"的方形基片。加熱元件為兩組紅外燈管，分別安裝在腔體的頂端和底部，其升溫速率高達(dá)20ºC/S 。溫控系統(tǒng)為PID30段程序化控制，控溫精度為+/-1ºC。儀器面板上帶有RS485接口，若儀表內(nèi)配有控溫軟件，就可將升溫程序和曲線導(dǎo)出.
	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀	GSL-1100X-SPC16-3 等離子3靶濺射儀是一款經(jīng)過CE認(rèn)證的緊湊型等離子鍍膜機(jī)。本機(jī)是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的，*簡單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。它的特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)設(shè)計(jì)安裝了三個(gè)靶。旋轉(zhuǎn)樣品臺，可以依次在同一樣品上涂覆三種材料。適用于實(shí)驗(yàn)室的各種復(fù)合膜樣品制備，及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極制作。

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