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產(chǎn)品名稱:
500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D
產(chǎn)品型號(hào):
VTC-2D
產(chǎn)品展商:
MTI
產(chǎn)品價(jià)格:
0.00 元
簡(jiǎn)單介紹
VTC-2DC是一款小型的直流(DC)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統(tǒng),系統(tǒng)中包含了所有所需的配件,如500W(600V)的DC電源、2"的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對(duì)于制作一些金屬薄膜,它是一款物美價(jià)廉的實(shí)驗(yàn)手。
500W直流等離子磁控濺射鍍膜儀--VTC-2D的詳細(xì)介紹
技術(shù)參數(shù)
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輸入電源
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220VAC 50/60Hz, 單相
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1000W (包括真空泵)
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等離子源
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一個(gè)500W,600V的直流電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)
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磁控濺射頭
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一個(gè) 2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接
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靶材尺寸: 直徑為50mm,*大厚度1.5mm
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一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上(手動(dòng)操作,見(jiàn)圖左3)
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濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī))
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同時(shí)可選配1英寸濺射頭
   
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真空腔體
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真空腔體:160 mm OD x 150 mm ID x 250mm H,采用高純石英制作
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密封法蘭:直徑為165 mm . 采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封
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一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體
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真空度:10-3 Torr (采用雙極旋片真空泵)
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10-5 torr (采渦旋分子泵)
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載樣臺(tái)
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載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱
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載樣臺(tái)尺寸:直徑50mm (*大可放置2英寸的基片)
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旋轉(zhuǎn)速度:1 - 10 rpm
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樣品的*高加熱溫度為700℃,控溫精度+/- 1.0℃
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真空泵
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可選用直聯(lián)式雙極旋片泵,也可選用德國(guó)制作的分子泵系統(tǒng)

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薄膜測(cè)厚儀
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一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
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LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

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外形尺寸
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質(zhì)保和質(zhì)量認(rèn)證
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一年質(zhì)保期,終生維護(hù)
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CE認(rèn)證
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使用注意事項(xiàng)
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為了得到較好的金屬膜,特別是針對(duì)易氧化的金屬,如Al, Mg和Li等,必須通入高純惰性氣體(> 5N)
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強(qiáng)烈建議采用PPM極的氣體凈化系統(tǒng)(將鋼瓶中的惰性氣體通過(guò)凈化系統(tǒng)過(guò)后,再導(dǎo)入到真空腔體內(nèi))
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我們也可在設(shè)備中安裝射頻(RF)電源,用于濺射非導(dǎo)電靶材,來(lái)制備非金屬薄膜

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