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深圳市科晶智達(dá)科技有限公司
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薄膜制備設(shè)備
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化學(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD、PECVD、LPCVD等
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產(chǎn)品名稱/型號(hào)
產(chǎn)品簡(jiǎn)單介紹
帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動(dòng)PECVD
OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL是一款雙溫區(qū)的PE-CVD管式爐系統(tǒng),組成部分為500W的射頻發(fā)生器、滑動(dòng)速度可控的雙溫區(qū)滑軌爐,預(yù)熱爐(作用為使固體原料蒸發(fā))和德國(guó)進(jìn)口的無油泵。此款PE-CVD對(duì)于生長(zhǎng)納米線或用CVD,方法來制作各種薄膜是一款新的探索工具。
1700℃單溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)
GSL-1700X-F3LV是一款CE認(rèn)證的管式爐CVD系統(tǒng),其真空泵采用雙旋片式,混氣系統(tǒng)采用三路浮子供氣系統(tǒng),*高溫度可以達(dá)到1700°C,真空度可達(dá)到5x10-2 torr ,可以混合1-3種氣體。
三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)
三溫區(qū)三通道混氣CVD系統(tǒng)是一款通過CE認(rèn)證的三溫區(qū)管式爐CVD系統(tǒng),其爐管直徑為60mm,其真空泵采用雙旋機(jī)械泵,混氣系統(tǒng)為3路浮子混氣系統(tǒng)。此高溫爐燒結(jié)溫度可達(dá)1700℃,真空度可達(dá)到5x10-2 torr ,可以混合1-3種氣體。
九通道混氣高真空CVD系統(tǒng)
九通道混氣高真空CVD系統(tǒng)GSL-1700X-80-HVC9 is CE certified 80mm diameter alumina tube furnace with vacuum pump system (up to 10-5 torr) and 9 channel precision digital Mass flow-meters, which can control nine types of gases f
1700°C二通道混氣高真空CVD系統(tǒng)-GSL-1700X-4-HVC
GSL-1700X-4-HVC是一款CE認(rèn)證的二通道高真空CVD系統(tǒng),其爐管直徑為4英寸,它是由二路質(zhì)子混氣系統(tǒng)和高真空機(jī)組組成,其*高工作溫度可達(dá)1600℃,極限真空度可達(dá) to 10^-5 torr?;鞖庀到y(tǒng)可以對(duì)兩種氣體進(jìn)行**的混氣,然后導(dǎo)入到管式爐內(nèi)部。
多通道質(zhì)量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)
為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行,利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng),因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD) 我公司供應(yīng)的產(chǎn)品符合國(guó)家有關(guān)環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定(含采購商ISO14000環(huán)境體系的要求),不會(huì)造成環(huán)境污染; 該產(chǎn)品符合含采購商OHSMS18000職業(yè)**健康管理體系標(biāo)準(zhǔn)的要求,不會(huì)對(duì)接觸產(chǎn)品的人員健康造成傷害!
1200℃Mini型 2通道CVD系統(tǒng)
OTF-1200X-S50-2F迷你型CVD管式爐,是一款通過CE認(rèn)證的可開啟式管式爐,能使樣品加熱到1200℃。左法蘭上安裝一個(gè)數(shù)字式真空顯示計(jì),右法蘭上安裝有一KF-25接口,可以與機(jī)械泵相連接(抽速為226L/m)。同時(shí)左法蘭上安裝有φ6.35的卡套接頭,使得爐體可與兩路混氣系統(tǒng)相連接。精-確的控溫系統(tǒng)提供30段升溫和降溫程序,其控溫精-確度為+/- 1 ℃ 。
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