多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)
如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱:
多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)
產(chǎn)品型號:
PECVD
產(chǎn)品展商:
MTI
產(chǎn)品價格:
0.00 元
簡單介紹
為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）
我公司供應的產(chǎn)品符合國家有關環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購商ISO14000環(huán)境體系的要求），不會造成環(huán)境污染；
該產(chǎn)品符合含采購商OHSMS18000職業(yè)**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產(chǎn)品的人員健康造成傷害！
多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)的詳細介紹
|
產(chǎn)品型號：
|
PECVD-等離子體增強化學氣相沉積法
|
| 產(chǎn)品簡介： |
為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體增強化學氣相沉積法（PECVD）
我公司供應的產(chǎn)品符合國家有關環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購商ISO14000環(huán)境體系的要求），不會造成環(huán)境污染；
該產(chǎn)品符合含采購商OHSMS18000職業(yè)**健康管理體系標準的要求，不會對接觸產(chǎn)品的人員健康造成傷害！
|
| 實驗機理： |
輝光放電等離子體中：電子密度高109-1012cm3
電子氣溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍
|
| 產(chǎn)品特點： |
雖環(huán)境溫度在100-300℃，但反應氣體在輝光放電等離子體中能受激分解，離解和離化，從而大大提高了反應物的活性。
因此，這些具有反應活性的中性物質很容易被吸附到較次溫度的基本表面上，發(fā)生非平衡的化學反應沉積生成薄膜。
科晶公司提供定制的薄膜材料的實驗室質量可靠、價格合理的緊湊型PECVD系統(tǒng)。
下圖顯示的是PECVD法用500V交流等離子體與OTF1200X50、7通道精密質量流量計和高真空系統(tǒng)氣體組成
 
OTF-1200X開啟式管式爐，工作溫度高達1200℃ 化學氣相沉積系統(tǒng)的組成圖
|
|
技術參數(shù)：
|
工作溫度：1200℃
爐管尺寸：Φ50，Φ60，Φ80都可用
溫度控制器：30段高精度數(shù)字可編程溫度控制器
加熱區(qū)長度：440mm
恒溫區(qū)長度：150mm
功率：AC 220V 4KW
輸出功率：50-500W*大可調±1%的穩(wěn)定性
RF頻率：2-150MHz的±0.005%穩(wěn)定可調
噪聲：≤55DB
冷卻：空氣冷卻
輸入功率：1KW AC 220V
采用KF25系列波紋管和精密球閥連接
真空度可達10-3torr
數(shù)字真空壓力表可直觀的顯示數(shù)值
- 內部裝有高精度數(shù)字顯示質量流量計可準確的控制氣體流量
- 氣體流量范圍為0-200 誤差為0.02%
- 一個氣體攪拌罐上安裝了液體釋放閥的底部情況
- 不銹鋼針閥安裝在左側可手動控制混合氣體輸入的數(shù)量
- 進氣口：采用國際標準雙卡套接頭
|
| 細節(jié)展示： |
   
點擊查看
|
| 外型尺寸： |
爐體：550*380*520mm
供氣及真空系統(tǒng)：600*600*597mm
凈重：120KG
|
| 產(chǎn)品證書： |
 CE認證 |
- 溫馨提示：為規(guī)避購買風險，建議您在購買前務必確認供應商資質與產(chǎn)品質量。
- 免責申明：以上內容為注冊會員自行發(fā)布，若信息的真實性、合法性存在爭議，平臺將會監(jiān)督協(xié)助處理，歡迎舉報
多通道質量控制高真空PECVD管式爐系統(tǒng)相關產(chǎn)品
產(chǎn)品搜索
聯(lián)系方式
產(chǎn)品目錄