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產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱(chēng)/型號(hào)	產(chǎn)品簡(jiǎn)單介紹
	滑竿式三溫區(qū)PECVD系統(tǒng) PECVD爐 TL1200-1400-1200-H-PE-I	滑竿式三溫區(qū)PECVD系統(tǒng)由TL1200真空立式爐、石英真空室、射頻電源、GX供氣系統(tǒng)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量系統(tǒng)組成?；褪饺郎貐^(qū)PECVD系統(tǒng)采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，抽真空時(shí)真空度能夠達(dá)到10-3Pa。該爐安裝有行程開(kāi)關(guān)，當(dāng)爐蓋打開(kāi)時(shí)會(huì)自動(dòng)切斷電源，有效地保證使用者的**。該爐通過(guò)射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低可以通過(guò)射頻電源的頻率來(lái)控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。廣泛應(yīng)用于各種薄膜的生長(zhǎng)。
	滑竿式單溫區(qū)PECVD系統(tǒng) PECVD爐 TL1200-H-PE-II	滑竿式單溫區(qū)PECVD系統(tǒng)在傳統(tǒng)PECVD系統(tǒng)基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)了快速加熱、冷卻功能，該爐底部安裝了一對(duì)滑軌，可手動(dòng)滑動(dòng)?；褪絾螠貐^(qū)PECVD系統(tǒng)?采用雙層殼體結(jié)構(gòu)。該爐安裝有行程開(kāi)關(guān)，當(dāng)爐蓋打開(kāi)時(shí)會(huì)自動(dòng)切斷電源，有效地保證使用者的*。加熱和冷卻速率大可達(dá)100°C/min。為取得快加熱，可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度，然后移動(dòng)爐子到樣品位置。為獲得快冷卻，可在樣品加熱后移動(dòng)爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10°C/S，是低成本快速熱處理的理想爐。
	PECVD系統(tǒng)爐 PECVD爐 TL1200-H-PE-I	PECVD系統(tǒng)爐在傳統(tǒng)PECVD系統(tǒng)基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)了快速加熱、冷卻功能，該爐底部安裝了一對(duì)滑軌，可手動(dòng)滑動(dòng)。PECVD系統(tǒng)爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)。該爐安裝有行程開(kāi)關(guān)，當(dāng)爐蓋打開(kāi)時(shí)會(huì)自動(dòng)切斷電源，有效地保證使用者的*。加熱和冷卻速率大可達(dá)100°C/min。為取得快加熱，可以預(yù)先加熱爐子到設(shè)定的溫度，然后移動(dòng)爐子到樣品位置。為獲得快冷卻，可在樣品加熱后移動(dòng)爐子到另一端。加熱和冷卻速率在真空或者惰性氣體環(huán)境下可以達(dá)到10°C/S，是低成本快速熱處理的理想爐。
	箱式氣氛爐 KXF13Q-I	該系列箱式氣氛爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。
	真空氣氛燒結(jié)爐 GF14Q-II	這款真空氣氛燒結(jié)爐以硅碳棒為加熱元件，真空氣氛燒結(jié)爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30 段程序控溫系統(tǒng)，移相觸發(fā)、可控硅控制，爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料，雙層爐殼間配有風(fēng)冷系統(tǒng)，能快速升降溫，采用外殼整體密封，蓋板和爐門(mén)密封均采用高溫硅膠 O 型圈密封，爐門(mén)處裝有水冷系統(tǒng)，氣體經(jīng)過(guò)流量計(jì)后由后膛進(jìn)入，經(jīng)爐膛后，由爐門(mén)口處出氣閥門(mén)排出，該爐有多處洗爐膛進(jìn)氣口，出氣口處有燃燒嘴，可以通氫氣、氬氣、氮?dú)狻?氧氣、一氧化碳、氨分解氣等氣體，該爐具有溫場(chǎng) 均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu) 點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。
	氣氛箱式爐 KXF16Q-II	該氣氛箱式爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。
	真空氣氛燒結(jié)爐 KXF16Q-III	該真空氣氛燒結(jié)爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。
	氣氛真空爐 KXF16Q-IV	該氣氛真空爐爐具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)，是高校、科研院所、工礦企業(yè)做氣氛保護(hù)燒結(jié)、氣氛還原用的理想產(chǎn)品。

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