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產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱(chēng)/型號(hào)	產(chǎn)品簡(jiǎn)單介紹
	小型 等離子清洗機(jī)	小型等離子清洗機(jī)集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計(jì)算機(jī)控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。工作時(shí)外接一臺(tái)真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時(shí)間內(nèi)徹底清洗掉有機(jī)污染物，清洗程度可達(dá)到分子級(jí)。另外，其樣品臺(tái)可選配加熱功能，可加負(fù)偏壓，用以實(shí)現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
	可自動(dòng)掃描等離子表面處理儀	GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺(tái)結(jié)合在一起的產(chǎn)品，有自動(dòng)控制的樣品臺(tái)，就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M(jìn)行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的一致性和均勻性。此系統(tǒng)是由RF發(fā)生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動(dòng)的工作臺(tái)（帶有真空吸盤(pán)和控制盒）。此系統(tǒng)產(chǎn)生等離子束可在非真空和低溫狀態(tài)下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學(xué)元件和塑料等，也可在常壓下進(jìn)行等離子增強(qiáng)氣相沉積。
	EQ-PCE-3 等離子清洗機(jī)	EQ-PCE-3 是微型臺(tái)式等離子清潔儀，這款離子清潔儀可利用空氣、氧氣或氬等離子來(lái)**玻璃、半導(dǎo)體、高分子材料、 金屬基座的表面納米有機(jī)污染物，在高射頻（RF）功率的情況下的*大有機(jī)物去除率約為10nm/min 。對(duì)材料進(jìn)行涂覆鍍膜前,使用本等離子清潔儀對(duì)單晶基片進(jìn)行清潔能獲取更好的效果。
	GSL1100X-PJF-LD等離子表面處理儀	GSL1100X-PJF-LD等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒(méi)有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學(xué)元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質(zhì)量的外延薄膜或者光學(xué)涂層，預(yù)先進(jìn)行表面處理可以得到顯著的效果。

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