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產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱/型號	產(chǎn)品簡單介紹
	小型 等離子清洗機	小型等離子清洗機集成了RF等離子體發(fā)生技術(shù)、計算機控制技術(shù)、軟件編程技術(shù)，采用氣體作為清洗介質(zhì)，有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。工作時外接一臺真空泵，清洗腔內(nèi)的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面，可短時間內(nèi)徹底清洗掉有機污染物，清洗程度可達到分子級。另外，其樣品臺可選配加熱功能，可加負偏壓，用以實現(xiàn)離子蝕刻。此外，其可在特定條件下根據(jù)需要改變某些材料表面的性能。
	可自動掃描等離子表面處理儀	GSL-1100X-PJF-A是等離子槍和可控制的樣品臺結(jié)合在一起的產(chǎn)品，有自動控制的樣品臺，就可使等離子槍按設(shè)定程序?qū)悠繁砻孢M行更均勻涂覆和處理，保證處理樣品表面的一致性和均勻性。此系統(tǒng)是由RF發(fā)生器、氣體傳輸管、等離子槍頭和X-Y移動的工作臺（帶有真空吸盤和控制盒）。此系統(tǒng)產(chǎn)生等離子束可在非真空和低溫狀態(tài)下活化和清洗樣品表面，可處理的樣品有單晶片，光學元件和塑料等，也可在常壓下進行等離子增強氣相沉積。
	EQ-PCE-3 等離子清洗機	EQ-PCE-3 是微型臺式等離子清潔儀，這款離子清潔儀可利用空氣、氧氣或氬等離子來**玻璃、半導體、高分子材料、 金屬基座的表面納米有機污染物，在高射頻（RF）功率的情況下的*大有機物去除率約為10nm/min 。對材料進行涂覆鍍膜前,使用本等離子清潔儀對單晶基片進行清潔能獲取更好的效果。
	GSL1100X-PJF-LD等離子表面處理儀	GSL1100X-PJF-LD等離子表面處理儀是一種緊湊的大氣離子表面處理噴射系統(tǒng)，主要由射頻發(fā)生器、離子束頭組成。噴射的離子束流能在較低的溫度和沒有真空條件下，迅速活化和清理材料表面。例如單晶片、光學元件、塑料等廣泛的材料。 為了獲得高質(zhì)量的外延薄膜或者光學涂層，預先進行表面處理可以得到顯著的效果。

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