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• 對應于從薄膜到厚膜的寬膜厚度
• 使用反射光譜的厚度分析
• 結構緊湊·成本低，但非接觸式，非破壞性和高度**的測量
• 簡單的條件設置和測量操作！易于測量任何人的膜厚度
• 通過非線性*小二乘法，優(yōu)化方法，PV方法，F(xiàn)FT分析方法等可以進行各種各樣的膜厚度測量。
• 通過非線性*小二乘法的膜厚度分析算法可以進行光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光數(shù)計數(shù)）

• **反射率測量
• 薄膜厚度分析分析（10層）
• 光學常數(shù)分析（n：折射率，k：消光米數(shù)）

• 功能性膜，塑料
  的透明導電膜（ITO，銀納米線），相位差膜，偏振膜，AR膜，PET，PEN，TAC，PP ，PC，PE，PVA， 膠，粘合劑，保護膜，硬外套，指紋等
• 半導體
  化合物半導體，Si，氧化膜，氮化膜，Resist，SiC，GaAs，GaN，InP，InGaAs，SOI，藍寶石等
• 表面處理的
  DLC涂層，防銹劑，防霧劑等
• 光學材料
  過濾器，AR涂層等
• FPD
  LCD（CF，ITO，LC，PI），OLED（有機薄膜，密封劑）等
• 其他
  硬盤，磁帶，建筑材料等

使用大冢電子，光學干涉測量和我們自己的高精度分光光度計可實現(xiàn)非接觸，無損，高速和高精度的薄膜厚度測量。光學干涉測量法是通過使用由使用如圖1所示的分光光度計的光學系統(tǒng)獲得的反射率來獲得光學膜厚度的方法。例如，如圖1所示，在金屬基板上涂布膜的情況下，從目標試樣的上方入射的光被膜（R1）的表面反射。而且，透過膜的光在基板（金屬）或膜界面（R2）上反射。測量此時由于光程差引起的相移引起的光學干涉現(xiàn)象，并根據(jù)所獲得的反射光譜和折射率計算膜厚度的方法稱為光學干涉方法。有四種分析方法：峰谷方法，頻率分析方法，非線性*小二乘法和優(yōu)化方法。

* 1請與我們聯(lián)系以獲取詳細信息
* 2 
超大規(guī)模集成電路薄膜厚度保證（100納米二氧化硅/硅）* 3 所述的測量保證值范圍對于VLSI薄膜厚度標準（100納米二氧化硅/硅）重復測量的不確定性（包含因子2.1）