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日本日立HITACHI日立半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)，成都強(qiáng)勢(shì)供應(yīng)

簡(jiǎn)單介紹

日本日立HITACHI日立半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)，成都強(qiáng)勢(shì)供應(yīng) 日本日立HITACHI日立半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)，成都強(qiáng)勢(shì)供應(yīng)

產(chǎn)品描述

日本日立HITACHI半導(dǎo)體蝕刻系統(tǒng)9000系列 的詳細(xì)介紹

新的9000系列的串接式平臺(tái)，其模組腔室設(shè)計(jì)，可以提供制程使用的彈性以及未來(lái)的擴(kuò)充性。
有助于順利過(guò)渡到未來(lái)450mm晶圓用設(shè)備的平臺(tái)和用戶界面標(biāo)準(zhǔn)化整合。
9000系列平臺(tái)采用了日立成熟的微波ECR（Electron Cyclotron Resonance）等離子體蝕刻腔室，已經(jīng)過(guò)大批量生產(chǎn)的考驗(yàn)。

應(yīng)用晶圓直徑	300mm
裝置構(gòu)成	9 chambers (max.)

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