規(guī)格參數(shù)
1.成像模式
1.1光學(xué)顯微鏡：放大倍數(shù):27-160x
1.2電子顯微鏡：放大倍數(shù):350,000x
2.照明
2.1光學(xué)：明場(chǎng)和暗場(chǎng)模式
2.2電子光學(xué)：長(zhǎng)壽命、高亮度的 CeB 燈絲
2.3加速電壓：基本模式:5 kV, 10 kV 和 15 kV；**模式:5 kV-20 kV 連續(xù)可調(diào)用于成像和元素分析
2.4分辨率：≤6 nm (SED)；≤8 nm (BSD)
3.樣品裝載時(shí)間：抽真空時(shí)間<15S；成像時(shí)間<30 s
4.圖像檢測(cè)
4.1光學(xué)：彩色導(dǎo)航相機(jī)
4.2電子光學(xué)：高靈敏度四分割背散射電子探測(cè)器具有成分模式和形貌模式可以同時(shí)檢測(cè)形貌和成分二次電子探測(cè)器(SED) 選配
5.圖像格式：JPEG, TIFF,PNG
6.圖像分辨率選項(xiàng)：960x600,1920x1200,3840x2400和 7680x4800 像素
7.數(shù)據(jù)存儲(chǔ)：網(wǎng)絡(luò)存儲(chǔ)；SSD 存儲(chǔ)
8.樣品臺(tái)：電腦控制的全自動(dòng)馬達(dá)樣品臺(tái)
9.元素識(shí)別軟件(EID)：
9.1第六代 Phenom ProX 配備了 EDS 探測(cè)器，通過(guò) X射線分析識(shí)別元素，從材料中獲取更多信息。得益于**設(shè)計(jì)的探測(cè)器位置，用戶無(wú)需改變工作距離，即可同時(shí)實(shí)現(xiàn)高分辨率成像和 EDS 元素分析，操作更加簡(jiǎn)便快捷。
9.2用戶可以通過(guò)實(shí)時(shí) EDS 模式在成像模式下實(shí)時(shí)識(shí)別元素，也可以通過(guò)完整能譜軟件(EID)進(jìn)行點(diǎn)分析，選區(qū)分析，線掃描和面掃描。
10.分步數(shù)據(jù)采集
10.1專門的元素識(shí)別軟件(EID)用以控制集成在電鏡主機(jī)內(nèi)的能譜儀(EDS)。元素分析和成像一樣簡(jiǎn)單，也無(wú)需在外部軟件或電腦之間來(lái)回切換。飛納電鏡采用的 CeB。燈絲可以產(chǎn)生同類掃描電鏡中更高的 X 射線計(jì)數(shù)率，因此可以更快地得到能譜分析結(jié)果。
10.2元素識(shí)別軟件(EID)使用戶可以識(shí)別元素周期表中幾乎所有的元素，從硼(5號(hào)元素)到镅(95號(hào)元素)，這是一款面向大樣品或多樣品的分析工具，項(xiàng)目文件可以存儲(chǔ)在本地或者網(wǎng)絡(luò)上，后續(xù)可根據(jù)需要再次進(jìn)行離線分析。
10.3元素識(shí)別軟件(EID)算法智能，擁有先進(jìn)的譜峰分析功能更優(yōu)的自動(dòng)標(biāo)定功能。同時(shí)，在分析過(guò)程中用戶也可以隨時(shí)進(jìn)行手動(dòng)標(biāo)定。軟件界面內(nèi)直觀的分布數(shù)據(jù)采集可以幫助用戶以更加合理、更有組織的工作流程獲取所有的能譜分析結(jié)果。
11.EDS 規(guī)格參數(shù)
11.1探測(cè)器類型
11.1.1硅漂移探測(cè)器(SDD)
11.1.2熱電制冷(無(wú)液氮)
11.2·X射線窗口
11.2.1超薄氮化硅(SìN)窗口
11.2.2元素檢測(cè)范圍 B to Am
11.3處理能力：2048 通道 @ 10 eV/ch 多通道分析
11.4*大輸入計(jì)數(shù)率：300,000 cps
11.6硬件集成：完全嵌入
11.7軟件
11.7.1在 Phenom 用戶界面集成
11.7.2控制掃描電鏡和樣品臺(tái)
11.7.3自動(dòng)識(shí)別譜峰
11.7.4迭代反卷積算法
11.7.5導(dǎo)出功能:CSV,JPG, TIFFELID,EMSA
11.8報(bào)告：Docx格式
12.系統(tǒng)規(guī)格參數(shù)
12.1尺寸和重量
12.1.1主機(jī)：286(w)x 566(d)x495(h) mm, 50 kg
12.1.2隔膜泵：145(w)x 220(d) x 213(h) mm, 4.5 kg
12.1.3電源：156(w)x 300(d) x 74(h) mm, 3 kg
12.1.4顯示器：531.5(w)x250(d)x515.4(h) mm, 6.7 kg
12.2工作站：聯(lián)想 P330，包括:SSD 存儲(chǔ)、4 個(gè) USB 插槽、尺寸92.5(w) x305.6(d)x343.5(h)mm, 重量8 kg
13.安裝要求
13.1環(huán)境條件
13.1.1溫度：15°C~30°C(59°F~86°F)
13.1.2濕度：< 80% RH
13.1.3電源：單相交流電 100-240 V50/60 Hz,250 W(*大功率)
13.2建議桌臺(tái)規(guī)格：120x75 cm,承重至少 100 kg
14.探測(cè)器類型
在第六代 Phenom ProX 中，標(biāo)配四分割背散射電子探測(cè)器(BSD)，可以產(chǎn)生清晰的圖像并提供成分對(duì)比信息。PhenomProX 可以選配二次電子探測(cè)器(SED)，SED從樣品的表層收集低能量電子，因此，它是分析樣品表面信息的*佳選擇，可以很好地應(yīng)用于表面和形態(tài)分析。此外，第六代PhenomProX 可以提供實(shí)時(shí)的背散射和二次電子混合圖像。
15.長(zhǎng)壽命 CeBs 燈絲
CeBs(六硼化鈰)燈絲具有很多優(yōu)點(diǎn):與鎢燈絲相比，它具有更高的亮度，使用戶容易獲得具有更多細(xì)節(jié)的高質(zhì)量圖像;其次，燈絲的壽命長(zhǎng)，維護(hù)方便。Phenom ProX配備的智能軟件，可以*大程度地延長(zhǎng)燈絲使用壽命:待機(jī)時(shí)，燈絲將自動(dòng)進(jìn)入休眠狀態(tài)。飛納臺(tái)式掃描電鏡運(yùn)行穩(wěn)定，即使長(zhǎng)時(shí)間工作，也可以保持良好的分辨率，提供高質(zhì)量成像。
16.元素面掃&線掃規(guī)格參數(shù)
16.1基于全譜的能譜面掃描和線掃描，后期可離線重新進(jìn)行元素定性、定量分析
16.2元素面掃
16.2.1元素選擇：可輸出用戶選定的獨(dú)立元素和掃描電鏡(SEM)成像以及元素/SEM 混合分布像
16.2.2面掃描區(qū)域：任意尺寸的矩形區(qū)
16.2.3面掃描像素?cái)?shù)：32x32-960 x960 pixels
16.2.4像素停留時(shí)間：10-500 ms
16.3元素線掃
16.3.1線掃像素?cái)?shù)：16-512 pixels
16.3.2像素停留時(shí)間：10-500 ms
16.3.3線掃描數(shù)量：12
16.4元素選擇：自動(dòng)標(biāo)定或手動(dòng)標(biāo)定
16.5報(bào)告：Docx 格式
17.二次電子探測(cè)器規(guī)格參數(shù)
探測(cè)器類型類型：ET探測(cè)器
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