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第12年
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產(chǎn)品詳情
簡單介紹：
PECVD系統(tǒng) 等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)。PECVD系統(tǒng) 等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)主要由管式加熱爐體，真空系統(tǒng)，質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)，射頻等離子源，石英反應(yīng)腔室等部件組成。
詳情介紹：
| PECVD系統(tǒng) | ||||||||
| PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法。 | ||||||||
| 本設(shè)備是借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng)，很容易發(fā)生反應(yīng)，在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學(xué)反應(yīng)能在較低的溫度下進(jìn)行，利用了等離子體的活性來促進(jìn)反應(yīng)，因而這種CVD稱為等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)。 | ||||||||
| 本設(shè)備主要由管式加熱爐體，真空系統(tǒng)，質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)，射頻等離子源，石英反應(yīng)腔室等部件組成。 | ||||||||
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主要特點(diǎn)： 1、通過射頻電源把石英真空室內(nèi)的氣體變?yōu)殡x子態(tài)。 2、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積所需的溫度更低。 3、可以通過射頻電源的頻率來控制所沉積薄膜的應(yīng)力大小。 4、PECVD比普通CVD進(jìn)行化學(xué)氣相沉積速率高、均勻性好、一致性和穩(wěn)定性高。 5、廣泛應(yīng)用于：各種薄膜的生長，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和無定型硅(a-Si:H) 等。 |
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| 系統(tǒng)選型 | ||||||||
| 項(xiàng) 目 | 推薦選型 | |||||||
| 管式加熱爐體 | ||||||||
| 石英反應(yīng)腔室 | 根據(jù)需求選擇不同直徑的石英管作為反應(yīng)室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等規(guī)格可選。 | |||||||
| 真空系統(tǒng) | 根據(jù)需求選擇不同真空效果的真空系統(tǒng)。有DZK10-1（極限真空0.1Pa），GZK10-3（極限真空0.001Pa），以及進(jìn)口高真空機(jī)組（極限真空0.0001Pa）供選擇。 | |||||||
| 質(zhì)子流量供氣系統(tǒng) | 根據(jù)需求選擇多路質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)。有兩路GQ-2Z，三路GQ-3Z，四路GQ-4Z，五路GQ-5Z或更多路供選擇。 | |||||||
| 射頻等離子源 | 根據(jù)需求選擇強(qiáng)度不同的射頻電源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射頻電源供選擇。 | |||||||
| 常見PECVD系統(tǒng)組合 | 1. 1200度60滑軌式微型管式爐，低真空系統(tǒng)，四路質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)，300W射頻電源 | |||||||
| MXG1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300 | ||||||||
| 2. 1200度60滑軌式管式爐，低真空系統(tǒng)，四路質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)，500W射頻電源 | ||||||||
| MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 | ||||||||
| 3. 1200度60雙溫區(qū)滑軌式管式爐，低真空系統(tǒng)，四路質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)，500W射頻電源 | ||||||||
| MXG1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 | ||||||||
| 4. 1200度60三溫區(qū)滑軌式管式爐，低真空系統(tǒng)，四路質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)，500W射頻電源 | ||||||||
| MXG1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 | ||||||||
| 5. 1200度60微型預(yù)熱爐，1200度60滑軌式管式爐，低真空系統(tǒng)，四路質(zhì)子流量供氣系統(tǒng)，500W射頻電源 | ||||||||
| MXG1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 | ||||||||
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