● 真空腔體為直徑6英寸的石英腔體，便于清潔和放入樣品
● 安裝有一個2英寸的樣品臺，并且樣品臺可以旋轉(zhuǎn)，使所制薄膜更加均勻
● 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，*高溫度可達到1500℃，并且配用專用氧化鋁舟，可裝入樣品
● 精-確控溫：可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/-1℃
● 氣體流量端口和閥門內(nèi)置用于腔室凈化和CVD可能性

● 溫度：*高1500℃ （1200℃以上＜1h）
● 建議升溫速率：≤20℃/ min （需根據(jù)工藝調(diào)整）
● 熱偶：B型或者S型熱偶
● 電源：AC220V，50Hz   *大6KW

● 采用鎢絲籃作為發(fā)熱源，并且配有專用的氧化鋁坩堝，熱電偶安裝在坩堝底部，以便于溫度測量和控制
● 采用S型熱電偶（工作溫度為200℃-1500℃）
● 可選B型熱電偶（工作溫度為1200℃-1700℃）
● 安裝有一個數(shù)顯的溫度控制器：可設(shè)置30段升降溫程序，控溫精度為+/- 1oC
● 溫度控制器的時間設(shè)置以秒為單位，建議將升溫/降溫速率限制在1200oC以下0.3oC/s（20oC/ min），在1200 - 1500oC限制到0.15oC/s（10oC/min）
● 儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝
   

● 儀器頂部安裝有樣品臺，直徑為Φ50mm，并設(shè)置有擋板，方便控制蒸發(fā)鍍膜時間
● 樣品臺可旋轉(zhuǎn)，增加鍍膜均勻性
● 樣品臺和蒸發(fā)源之間的距離可以調(diào)節(jié)

● 進氣接口為1/4NPS，可向真空腔體中通入惰性氣體，對腔體進行清洗，也可通入反應(yīng)氣體，進行反應(yīng)蒸發(fā)鍍膜
● 進氣口安裝有一針閥，用于調(diào)節(jié)進氣流量
● 程序控溫型四坩堝蒸發(fā)鍍膜儀-GSL-1700X-EV4
● 儀器中配有鎢絲籃及氧化鋁坩堝，并用戶可額外選購鎢絲籃及氧化鋁坩堝
  

可選購一數(shù)顯防腐真空計，測量范圍為：3.8x10-5-1125Torr

● 可在本公司選購精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在濺射儀上，可實時監(jiān)測薄膜的厚度，分辨率為0.10 ?
● LED顯示屏顯示，同時也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
● 同時可選購反射光譜薄膜測厚儀--TFMS-LD
  

● 設(shè)備上有一KF25接口用于連接真空泵
● 采用渦旋分子泵真空可達1.0E-5Torr，極限真空度可達4.0E-6Torr
● 雙極旋片真空泵或干泵，可使儀器真空腔體的真空度達到10-2Torr
● 真空度達到10-2torr時，可蒸發(fā)一些貴金屬，參考材料金和鉑，也可蒸發(fā)一些有機材料，可選購數(shù)顯防腐真空計PCG-554(測量范圍3.8x10-5 to 1125 Torr.)
● 高真空度可達1.0E-5Torr（采用渦旋分子泵），此時可蒸發(fā)對氧敏感的材料，參考材料Al. Mg, Li，分子泵上帶有復(fù)合真空計（*高可測量真空度為1.0E-7Torr）
● 可在本公司選購各種真空泵和真空計

● 可在本公司選購各種真空泵和真空計

490mm*330mm*560mm

● 為了獲得高真空度，可采用以下做法
（1）使用前要檢查密封圈和法蘭上是否有異物或劃痕，并用酒精擦洗
（2）抽真空時，用外部加熱裝置將腔體烘烤到200℃，氧化鋁坩堝預(yù)加熱到500℃，保持2小時
● 此款蒸鍍儀可以放入到手套箱里操作，用于蒸鍍一些在常溫下對氧氣敏感的材料，比如金屬Li等，可在本公司選購開啟式手套箱VGB-6
  

所有電器元件（>24V）都通過UL?/?MET?/?CSA認(rèn)證CE認(rèn)證/
若客戶出認(rèn)證費用，本公司保證單臺設(shè)備通過德國TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證