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普通加熱平臺(tái)
應(yīng)用范圍:KJML普通加熱平臺(tái)適用于加熱時(shí)不會(huì)發(fā)生性質(zhì)和形狀改變的材料,即不受加熱影響的材料。KJML普通加熱平臺(tái)主要用于科研實(shí)驗(yàn)室做化學(xué)分析、物理測(cè)定、熱處理時(shí)進(jìn)行物品的烘焙、干燥以及其它溫度試驗(yàn)加熱。KJML加熱板采用鑄鋼材料,表面經(jīng)防腐工藝處理,通電后進(jìn)行持續(xù)加熱升溫,極限溫度可達(dá)到400℃。該加熱平臺(tái)采用全封閉式加熱盤(pán),無(wú)明火,升溫速度快,受環(huán)境影響小,安 全可靠,可加熱的極限溫度高,采用電子調(diào)溫裝置,具備無(wú)極調(diào)溫、電源雙相功能。 產(chǎn)品型號(hào) :KJML
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