真空管式爐是一種先進實驗設(shè)備,適用于金屬，納米，單晶硅,多晶硅,電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，氣氛熱處理的加熱設(shè)備真空管式爐用于材料或化學(xué)實驗室，在真空或氣氛狀態(tài)下燒結(jié)各種新材料樣品。真空管式爐廣泛應(yīng)用于高、中、低溫工藝，例如；納米粉體的轉(zhuǎn)相、炭納米管的研制、晶體硅基板鍍膜、納米氧化鋅結(jié)構(gòu)的可控生長等等；也可適用于金屬材料的擴散焊接以及真空或保護氣氛下熱處理。
真空管式爐主要由以下部份組成：爐體、高溫電阻絲加熱系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)。
管式爐采用國家標(biāo)準(zhǔn)管式爐爐膛，采用高溫電阻絲周邊精密加熱，安裝使用方便，爐襯采用陶瓷纖維+輕質(zhì)磚組合節(jié)能保溫結(jié)構(gòu)，具有優(yōu)良的節(jié)能性能和快速升溫性能。
真空管式爐均系周期作業(yè)式。供實驗室、工礦企業(yè)、科研單位作元素分析測定和一般小型鋼件的淬火、退火、回火和電子陶瓷等新材料的加熱用。
本系列設(shè)備的成套供應(yīng)范圍有溫度控制器、熱電偶、補償導(dǎo)線等。溫度控制有繼電器控制、可控硅控制二種，由于是間歇式作業(yè)爐，一般都采用40段PlD**可編程控制，能嚴格控制產(chǎn)品的燒制過程。
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