瑞士華寶 (WAB) 砂磨機(jī)/珠磨機(jī)
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產(chǎn)品名稱:
瑞士華寶 (WAB) 砂磨機(jī)/珠磨機(jī)
產(chǎn)品型號(hào):
ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus
產(chǎn)品展商:
其它品牌
產(chǎn)品價(jià)格:
0.00 元
簡(jiǎn)單介紹
瑞士華寶 (WAB) 砂磨機(jī)/珠磨機(jī)ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus攪拌式珠磨機(jī)用于持續(xù)分散和濕磨由低到高粘度的泵送材料。WAB-ECM戴諾磨在循環(huán)式工藝下可獲得很高的產(chǎn)量，同樣，它在通道式工藝下表現(xiàn)也很成功。
瑞士華寶 (WAB) 砂磨機(jī)/珠磨機(jī)的詳細(xì)介紹
瑞士華寶 (WAB) 砂磨機(jī)/珠磨機(jī)ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus
ECM-Pilot, ECM-Poly, ECM Pro, ECM Plus |
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用于分散和濕磨的高效攪拌式珠磨機(jī). 應(yīng) 用 | 攪拌式珠磨機(jī)用于持續(xù)分散和濕磨由低到高粘度的泵送材料。WAB-ECM戴諾磨在循環(huán)式工藝下可獲得很高的產(chǎn)量，同樣，它在通道式工藝下表現(xiàn)也很成功。 WAB - ECM 戴諾磨可用于不同工業(yè)中的分散和研磨： |
| 原 理 | | 在 ECM 戴諾磨中，研磨珠通過**的戴諾加速器加速。獨(dú)特的構(gòu)造使得內(nèi)部研磨珠的循環(huán)得到加強(qiáng)，這樣就保證了一個(gè)較窄的保壓范圍且結(jié)合了*高的能量密度。戴諾加速器使研磨珠循環(huán)得到的加強(qiáng)在密度和速度上都比材料流動(dòng)至研磨機(jī)出口方向上對(duì)研磨珠所產(chǎn)生的影響大得多。 |
| 研磨珠的分離 | | 研磨珠通過抗磨損的篩網(wǎng)保留在研磨機(jī)中，特殊的戴諾加速器和在篩網(wǎng)附近的機(jī)器部件都設(shè)計(jì)用于減輕研磨珠對(duì)篩網(wǎng)系統(tǒng)的磨損?？稍诓挥貌痖_研磨缸的條件下更換篩網(wǎng)筒。可使用各種材料制成的研磨珠 |
| 材 料 | | 易損件可由不同的材料制成如不銹鋼、加硬鋼和陶瓷。特別選擇的陶瓷材料 (e.g. SiSiC) 具有一個(gè)優(yōu)化的散熱能力和*佳的冷卻能力。 |
| 軸密封 | | 容易更換的雙機(jī)密封，帶壓力清洗單元。清洗液壓力通過閥門來調(diào)節(jié)，冷卻壓力清洗罐由不銹鋼制成。 |
| 維 護(hù) | | 研磨缸移動(dòng)裝置和研磨珠接收器可在*佳的工作高度幫助客戶迅速和容易的維護(hù)機(jī)器，縮短了停機(jī)時(shí)間。 |
| 控制元件 | | 對(duì)于機(jī)械系統(tǒng)控制，控制面板帶按鈕和信號(hào)燈或含數(shù)字指示器的頁碼鍵盤。 |
| **裝置 | | 進(jìn)口處裝有接觸式壓力計(jì)，出口處裝有接觸式溫度計(jì)，鄰近感應(yīng)開關(guān)防止在沒有安裝研磨缸或前蓋的情況下將機(jī)器開動(dòng)。鄰近電容開關(guān)用于監(jiān)察機(jī)械密封中的清洗液液面，接觸式壓力計(jì)用于監(jiān)察軸密封的壓力。 |
| WAB - ECM 的優(yōu)點(diǎn) | - －*高流量
- －*高產(chǎn)量
- －*佳能量利用率
- －研磨缸較小
- －適合于循環(huán)式和通道式工藝
- －容易清洗
- －容易操作
- －更換篩網(wǎng)無須打開研磨缸
ECM 戴諾磨只能用于持續(xù)分散和研磨液相中的固體。在壓力、溫度和研磨作用的影響下，不能出現(xiàn)不可控制的反應(yīng)。材料在研磨機(jī)中處理后，必須保持可流動(dòng)性。 產(chǎn)量取決于被處理的材料及所需的研磨質(zhì)量。所標(biāo)志的產(chǎn)量為一平均值，實(shí)際產(chǎn)量可能會(huì)稍低或稍高。戴諾磨具有不同的設(shè)計(jì)和型號(hào)。 |
| 技術(shù)參數(shù) |
| ECM-Pilot | ECM-Poly | ECM Pro | ECM Plus | | 研磨缸 | 1.5 升 | 8.2 升 | 18.2 升 | 23.3 升 | | 主馬達(dá) | 6.8-7.5 kW | 22-30 kW | 36-45 kW | 36-45 kW | | 研磨珠尺寸 | 0.3-2 mm | 0.3-2 mm | 0.3-2 mm | 0.3-2 mm | | 研???珠數(shù)量 | 0.9-1.1 升 | 4.1-5.3 升 | 9-12 升 | 11.7-15.1 升 | | 產(chǎn)量 | 40-80 kg/h | 100-1000 kg/h | 400-2000 kg/h | 400-2500 kg/h | | 重量 | 360-380 kg | 700-900 kg | 1900-2000 kg | 1900-2000 kg | 尺寸
(mm) | 1372
×
830
×
710 | 1390
×
800
×
1680 | 1795
×
1016
×
1989 | 1903
×
1016
×
1989 |
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| ECM-Pilot | ECM-Poly | ECM Pro | ECM Plus | | 研磨缸溫度 | *大 85oC | *大 85oC | *大 85oC | *大 85oC | | 研磨缸壓力 | *大 4 bar | *大 4 bar | *大 4 bar | *大 4 bar | | 冷卻系統(tǒng)壓力 | *大 6 bar | *大 6 bar | *大 6 bar | *大 6 bar | | 冷卻水流量 | 800 升 / 小時(shí) | 2000 升 / 小時(shí) | 2000 升 / 小時(shí) | 2000 升 / 小時(shí) |
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| 接 口 |
| ECM-Pilot | ECM-Poly | ECM Pro | ECM Plus | | 材料進(jìn)出口 | Ø 25.4 mm | G1" | G1" | G1" | | 冷卻水 | Ø 13 mm | Ø 17 mm | Ø 17 mm | Ø 17 mm | | 軸密封冷卻 | Ø 10 mm | Ø 10 mm | Ø 10 mm | Ø 10 mm |
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| 圖 片 | | ECM-Pilot |  |
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| ECM Poly |  |
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| ECM Pro |  |
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| ECM Plus |  |
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| - 戴諾加速器可獲得*高的能量密度，通過SSP反饋孔可獲得更高流量。
- ECM Poly / Pro / Plus的新型篩網(wǎng)分離系統(tǒng)，設(shè)計(jì)上采用篩網(wǎng)筒，確保了較長的操作時(shí)間。
- 為方便維護(hù)，研磨缸可通過移動(dòng)裝置得到延展。
- ECM-Pilot用于小批量、研究和開發(fā)。
- 帶控制系統(tǒng)的ECM Poly 外形。
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