它是用于EUV暴露的EUV POD的全自動清潔裝置,這是新的曝光技術(shù)。除了拆卸/重新組裝內(nèi)部POD和外部POD之外,每個POD都使用單獨的專用CH進行清潔/干燥。 完全無人值守的操作也是可能的。 采用獨特的清潔/干燥技術(shù)實現(xiàn)納米級顆粒去除30年,作為半導(dǎo)體設(shè)備容器清潔設(shè)備制造商。
-足跡設(shè)計 ,專有清洗技術(shù)通過超精密清洗 和高效的干燥系統(tǒng)完全干燥實現(xiàn)通過 ,全自動POD開放的交叉污染預(yù)防由 -RSP200兼容 機器人手自清潔系統(tǒng)內(nèi)置 -獨立專用室**
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