1概述
直到19世紀(jì)20年代中期,鍍液中用硫酸作為催化劑,才有了實(shí)用的電鍍工藝,稱(chēng)為**代鍍鉻添加劑,又被稱(chēng)為標(biāo)準(zhǔn)鍍鉻或普通鍍鉻。此工藝電流效率很低(12-15%),分散能力差,覆蓋能力低,不過(guò)此工藝已很成熟,鍍液較穩(wěn)定,應(yīng)用廣泛。50年代開(kāi)始用氟化物或氟化絡(luò)(配)合物作催化劑,全部或部分代替硫酸根,陰極電流效率提高到18-22%,分散能力和覆蓋能力都有所提高,稱(chēng)為**代鍍鉻添加劑。但是氟化物腐蝕性極強(qiáng),特別對(duì)零件凹部腐蝕嚴(yán)重,損壞了零件,并將鐵離子作為雜質(zhì)引入鍍液。氟對(duì)陽(yáng)極,槽體及設(shè)備(包括玻璃及陶瓷材料)也有嚴(yán)重腐蝕作用。此鍍液對(duì)雜質(zhì)(如鐵)更加敏感,氟的分析又比較麻煩,由于以上缺點(diǎn),應(yīng)用不普通。80年代國(guó)際上推出不含氟,無(wú)腐蝕的第三代鍍鉻添加劑,現(xiàn)已廣泛應(yīng)用。它將陰極電流效率提高到25%左右,可使用較大電流。
2工藝特點(diǎn)
*適宜鍍硬鉻,微裂紋鉻,松孔鉻及光亮鍍鉻,也可用于裝飾鉻和乳白鉻。
本工藝陰極電流效率22-27%,不含氟,無(wú)腐蝕;鍍層光亮細(xì)致;鍍層均勻,覆蓋能力強(qiáng);鍍層硬度高,可達(dá)1000HV以上;微裂紋數(shù)達(dá)400-1000條/厘米;鍍液穩(wěn)定,易操作和維護(hù);沉積速度比普通鍍鉻快1倍左右,省工省時(shí),節(jié)電;普通鍍鉻溶液及硼酸鍍鉻液可直接轉(zhuǎn)化。
3工藝規(guī)范
一般鍍件活塞環(huán)
鉻酐(CrO3)g/l250(150-350)180
硫酸(H2SO4)g/l3.0(1.5-4.0)2.0
STHC添加劑(ml/l)8(6-10)8
溫度(℃)60(55-70)60
陰極電流密度(A/dm2)60(30-80)80
SA:Sk2-32-3
鍍液的配制與普通鍍鉻相同,配好后加入STHC添加劑即可。若原來(lái)是普通鍍鉻或硼酸鍍鉻,在鍍液中加入STHC添加劑即可。原料不純往往使電鍍質(zhì)量下降,甚至造成故障,可采用預(yù)先凈化處理過(guò)的濃縮鍍液配槽。添加劑消耗很少,主要是鍍件及鉻霧帶出,電鍍硬鉻時(shí)如陰極電流密度為40 A/dm2,添加量2-4ml/KAh;陰極電流密度為60A/dm2,添加量1-3ml/Kah。
陽(yáng)極可用鉛錫合金(錫7%),鉛銻合金;建議鍍槽用鈦或鋼槽內(nèi)襯塑。
4鍍液
4.1鍍液中鉻以Cr+6形式存在,它在陰極還原為金屬鉻,同時(shí)也產(chǎn)生一部分Cr+3。鉻酐濃度控制在150-350g/l之間為宜,濃度增高,配槽成本增加,電流效率有所下降,鍍層硬度較低。濃度低于200g/l電導(dǎo)率急劇下降,槽電壓上升,能耗增加,此能量又轉(zhuǎn)化為熱能,使槽液溫度上升,冷卻水用量增加。低濃度對(duì)雜質(zhì)的承受能力下降,從節(jié)能節(jié)水及鍍液穩(wěn)定性考慮,不宜采用更低濃度鍍液。
4.2硫酸是Cr+6還原為金屬鉻的催化劑,沒(méi)有硫酸,陰極上只產(chǎn)生氫氣,無(wú)金屬鉻沉積。鉻酐與硫酸的比例可在50-180之間,此范圍比普通鍍鉻液的比例寬。當(dāng)鉻酐濃度為250時(shí),硫酸可用2.5,這時(shí)電流效率較高,鍍層、鍍液性能較好。工業(yè)鉻酐中含有硫酸根,且因產(chǎn)地,批號(hào)不同含量也不同。在配制時(shí)應(yīng)先分析再添加。
4.3工業(yè)級(jí)鉻酐中總含有Cr+3,陰極電解時(shí)也會(huì)產(chǎn)生一部分Cr+3,Cr+3濃度增大時(shí),鍍液顏色變深,電陰增大槽電壓升高,鍍層粗糙、灰暗、發(fā)脆,易長(zhǎng)毛刺,光亮電流密度范圍變窄。鍍液對(duì)的容忍度比較大,但仍要盡量減少Cr+3,*好不超過(guò)10g/l,濃度過(guò)高時(shí),可用大陽(yáng)極小陰極電解,在陽(yáng)極上Cr+3被氧化成Cr+6。鐵是*易引入的雜質(zhì),由于鉻酸的氧化性,鐵以Fe+3的形式存在于鍍液中。Fe+3濃度在10g/l以?xún)?nèi),對(duì)鍍層及鍍液性能影響很小,F(xiàn)e+3增大會(huì)產(chǎn)生與Cr+3相似的**影響。Cr+3和Fe+3的總濃度若超過(guò)25g/l時(shí),將產(chǎn)生較嚴(yán)重的影響。Fe+3的來(lái)源主要是鍍件的反電解浸蝕,鍍件落入鍍槽以及清洗不凈而造成,鉻酐不純、水中鐵離子也是引入鐵雜質(zhì)的原因。Cu+2、Ni+2、NO3-、PO4-3、Cl-、F-都有可能進(jìn)入鍍液,成為雜質(zhì),產(chǎn)生**影響。Cl-、F-還有較強(qiáng)的??蝕性,要盡量避免這些雜質(zhì)進(jìn)入鍍液。
4.4STHC添加劑屬第三代催化劑,不含氟,無(wú)稀土,在鉻酸溶液中有較大的溶解度。鍍液具有整平性,鍍層更光亮,并且具有微裂紋。STHC添加劑濃度可控制在6-10ml/l,低于6ml/l,效果較差;高于10ml/l鍍液性能有所提高,但不明顯。鉻酐濃度高時(shí),STHC添加劑也要相應(yīng)多加,反之少加。
鍍液的溫度和電流密度與鍍液的性能,鍍層性質(zhì)有關(guān),這兩個(gè)參數(shù)互相關(guān)聯(lián),當(dāng)改變其中一個(gè)時(shí),另一個(gè)也必須相應(yīng)改變。
STHC鍍液的陰極電流效率隨陰極電流密度的升高而增大。在60℃,電流密度由30A/dm2增加到80A/dm2時(shí),電流效率由22%增加至27%。電流密度低于15A/dm2時(shí),鍍層發(fā)灰;高于110A/dm2時(shí),長(zhǎng)毛刺甚至燒焦。高電流密度區(qū)可用陰極保護(hù)或屏蔽來(lái)改善。一般說(shuō)來(lái),溫度低時(shí),電流密度也要相應(yīng)減少,溫度高時(shí),電流密度增大,用60℃較適宜。
4.5電流效率和沉積速度
STHC鍍鉻與普通鍍鉻相比,電流效率高,可用較大的電流。所以沉積速度快得多。在時(shí)電流密度,電流效率與沉積速度的關(guān)系見(jiàn)表:
陰極電流密度;A/dm22
陰極電流效率;%21.023.125.027.028.5
沉積速度;μm/h19.041.768.097.8129.0
4.6分散能力與覆蓋能力
用50mm×100mm鋼片對(duì)折90○角,按直角陰極法測(cè)其覆蓋能力(深鍍能力),試片內(nèi)部全部鍍上鉻;試片折成30○的內(nèi)角電鍍,內(nèi)側(cè)表面也全部鍍上了鉻。
4.7光亮度與整平性
STHC鍍鉻添加劑既是催化劑又是光亮劑;且有整平性能,在未拋光的基體上可得到高亮度的鉻鍍層,鍍層越厚越光亮。普通鍍鉻時(shí)光亮度差,鍍裝飾鉻時(shí)要在光亮的基體表面上鍍一層很薄的鉻(約為0.2-0.5μm),瑞鍍厚則光亮度下降,而STHC鍍鉻卻越厚越亮。
4.8鍍層硬度
用ISOMAM104-A顯微硬度度測(cè)得≥1000HV。
4.9鍍層結(jié)合力
按GB5270-85做熱震試驗(yàn),鍍層厚30μm,加熱至300℃,保溫1小時(shí),然后在室溫水中驟冷,不出現(xiàn)起泡、剝落。用0.75mm低碳鋼片做彎曲試驗(yàn),鍍層厚為20μm,反復(fù)彎曲至斷裂,無(wú)鍍層剝落。再用一試片先鍍上15μm鉻,取出清洗干凈,吹干,再活化,清洗后鍍上25μm鉻層,經(jīng)反復(fù)彎曲,鉻層之間無(wú)剝離。當(dāng)試片鍍上15μm鉻后,取出用水清洗干凈,不經(jīng)活化,再鍍上20μm鉻層,作彎曲試驗(yàn)也無(wú)剝落。
4.10腐蝕性
STHC鍍鉻添加劑不含氟,腐蝕性小,用小電流電解試片,對(duì)基體的腐蝕與普通鍍鉻相當(dāng)。對(duì)陽(yáng)極而言,用鉛錫合金(含錫7%)做陽(yáng)極,在普通鍍鉻液與STHC鍍鉻液中電解608A·h后,在普通鍍鉻液中的陽(yáng)極損失為0.37g,合計(jì)0.609g/KAh,而在STHC鍍鉻液中陽(yáng)極損失只有0.25g,合計(jì)0.41g/KAh,所以STHC鍍鉻液對(duì)陽(yáng)極腐蝕作用比普通鍍鉻液小。
4.11微裂紋
微裂紋可大幅提高鍍層防蝕性,對(duì)于磨擦件,由于裂紋中可貯存潤(rùn)滑油,從而大大提高其使用壽命。一般采用240-800條/cm裂紋,STHC鍍鉻一般情況下可產(chǎn)生400-800條/cm微裂紋。
選擇70℃,15A/dm2電流密度,在STHC鍍鉻液中可得到硬度較低,無(wú)裂紋的乳白鉻。
STHC鍍鉻添加劑的應(yīng)用STHC鍍鉻添加劑的應(yīng)用STHC鍍鉻添加劑的應(yīng)用STHC鍍鉻添加劑的應(yīng)用STHC鍍鉻添加劑的應(yīng)用