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設(shè)備技術(shù)參數(shù)
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使用條件 |
環(huán)境溫度5℃～40℃ 電源：三相380 V,功率：≤20 KW，水壓：≤2.5bar |
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真空室尺寸 |
蒸發(fā)室尺寸：φ500×H500(㎜) |
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電子槍 |
新型電子槍1套，6穴坩堝 |
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樣品轉(zhuǎn)盤 |
樣品尺寸：≤φ150mm，樣品可旋轉(zhuǎn)，也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃ |
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系統(tǒng)真空度 |
極限真空 |
經(jīng)12～24小時烘烤，連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa |
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抽氣速率 |
從大氣開始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa |
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系統(tǒng)漏率 |
整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時后，測量真空室真空度≤10Pa |
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抽真空系統(tǒng) |
FB1200分子泵+機(jī)械泵(TRP-36)系統(tǒng)，并設(shè)置旁路抽氣 |
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鍍膜監(jiān)測 |
采用SQM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測 |
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鍍膜厚度 |
鍍膜厚度的不均勻度≤6% |
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