標準臺階高度/溝槽深度(200~10000)nm,U≦1%,k=2;
本規(guī)范適用于激光共聚焦顯微鏡的校準,其他基于共聚焦原理的顯微鏡校準也可參照本規(guī)范。激光共聚焦顯微鏡利用共軛點照明、點探測原理,通過激光逐點照明掃描和空間針孔調制技術獲取光學層析圖像,從而得到被測物體二維圖像或三維表面形貌參數(shù)的儀器。共聚焦顯微鏡具有多種照明約束和探測形式,被廣泛應用于材料科學、微納米加工、半導體器件和生命科學等領域。
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