WaveSensor & WaveMaster® 波前測試系統(tǒng)

夏克-哈特曼波前傳感器

  為了能夠驗(yàn)證復(fù)雜的光學(xué)設(shè)計(jì)在生產(chǎn)中是否成功，必須使用一個有效的檢測技術(shù)。波前測量特別適合此目的，因?yàn)樗梢栽诳臻g分辨的基礎(chǔ)上確定圖像質(zhì)量，包括所有視場角上和整個樣品孔徑。與傳統(tǒng)的MTF測試相比，波前測試是用點(diǎn)擴(kuò)散函數(shù)進(jìn)行評價(jià)，可覆蓋整個樣品口徑。









產(chǎn)品特點(diǎn)
01 ▏靈敏度高
WaveSensor和WaveMaster®系列波前測試系統(tǒng)的動態(tài)范圍高達(dá)2000λ，可在鏡頭設(shè)計(jì)中實(shí)現(xiàn)高度靈敏的測量。



02 ▏重復(fù)精度高
除了高達(dá)λ/20 (RMS)的測量精度外，由于緊湊、堅(jiān)固和抗振的設(shè)計(jì)，還實(shí)現(xiàn)了λ/200 (RMS)的高重復(fù)性。



03 ▏實(shí)時分析
實(shí)時將測量波前數(shù)據(jù)的結(jié)果與樣品鏡片或設(shè)計(jì)值的結(jié)果進(jìn)行比較和評估。













產(chǎn)品概述


WaveMaster® Compact 2 研發(fā)型透過波前測量

WaveMaster® Compact 2在質(zhì)量控制中提供單透鏡或整個光學(xué)系統(tǒng)的波前測量。

在研發(fā)和質(zhì)量控制中對單個鏡片進(jìn)行波前測量

整個光學(xué)系統(tǒng)的透過波前測量和分析




WaveMaster® Compact Reflex 研發(fā)型反射波前測量

WaveMaster® Compact Reflex可以測量單透鏡的表面形貌和曲率半徑。

在研發(fā)和質(zhì)量控制中對單個鏡片進(jìn)行波前測量

表面形貌的測量與分析




WaveMaster® Compact 2 Universal 透射和反射波前測試

WaveMaster® Compact 2 Universal集成了透過波前測量和反射表面形貌測量。

在研發(fā)和質(zhì)量控制中對單個鏡片進(jìn)行波前測量

整個光學(xué)系統(tǒng)和反射式表面形貌的測量和分析

 

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