-紅外透射Wafer正反面定位標(biāo)記重合誤差無損測量硅基半導(dǎo)體Wafer、碲化鎘CdTe、碲鎘汞HgCdTe襯底無損紅外檢測太陽能電池組件綜合缺陷紅外檢測

工業(yè)檢測需要利用紅外光的穿透性來對芯片內(nèi)部進(jìn)行更加清晰準(zhǔn)確的非破壞檢測和分析，這在光通訊領(lǐng)域、**封裝、晶圓制造中是必需的檢測技術(shù)。由歐米特自主研發(fā)的NIR-RX系列工業(yè)紅外顯微系統(tǒng)是國內(nèi)領(lǐng) 先的近紅外檢測設(shè)備，使用的紅外波長更長，穿透硅片的能力更強(qiáng)，成像更加清晰，是工業(yè)檢測領(lǐng)域強(qiáng)有力的解決方案。