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成功案例

PCB 蝕刻液再生控制系統(tǒng)

作者：meacoo                                                                                                                                       標簽：自動加藥控制系統(tǒng)

 ——FeCL3蝕刻溶液再生自動監(jiān)控系統(tǒng)
一、工藝介紹
      xxx 電子（杭州）有限公司蝕刻車間使用的蝕刻溶液為FeCL3溶液，工作溫度在40-50℃左右。蝕刻的基板材料主要為銅或不銹鋼。原有的工藝，對
HCL的濃度、比重（SG）和氧化還原電位（ORP）測量均采用手工分析來進行，實現(xiàn)FeCL3蝕刻溶液再生所添加的HCL、水和NaCLO也是通過手動來完
成。同時，我們實地現(xiàn)場考察發(fā)現(xiàn)，原來的加藥管路和容量存在著嚴重的不匹配性。
   不難理解，原有的工藝在分析測量環(huán)節(jié)存在著嚴重的滯后性，很難及時、有效、準確地指導生產(chǎn)。添加藥劑環(huán)節(jié)也同樣存在嚴重的盲目性（要完全依賴操作者的經(jīng)驗來指導作業(yè)），很容易出現(xiàn)加過量或不足的現(xiàn)象，產(chǎn)生整個工藝流程的大幅波動。直接影響生產(chǎn)的品質(zhì)和產(chǎn)能。大量案例證明采用了我公司研發(fā)的蝕刻液再生控制系統(tǒng)之后，完全避免了上述問題的存在。

二、改造任務
    按xxx 電子（杭州）有限公司蝕刻生產(chǎn)工藝的新要求，蝕刻液再生控制系統(tǒng)對FeCL3蝕刻溶液中的HCL濃度、比重（SG）和氧化還原電位（ORP）實施全天候在線監(jiān)測，并通過反饋閉環(huán)自動控制系統(tǒng)，實現(xiàn)全自動添加HCL、水和NaCLO藥劑。保證FeCL3蝕刻溶液在一個穩(wěn)定、可控、高效的環(huán)境下再生循環(huán)利用。

三、蝕刻液再生控制系統(tǒng)項目構成
       
       1、  控制目標： 
                HCL調(diào)節(jié)范圍                                       0.4-1N
       比重（SG）調(diào)節(jié)范圍                        1.300 – 1.500
       氧化還原電位（ORP）調(diào)節(jié)范圍     580 – 640mv

        2、  測量方式： 在線自動監(jiān)測

        3、  測量點：   HCL、比重、ORP各兩個點

        4、  控制方式： 閉環(huán)PID（比例-積分-微分）控制

        5、  藥劑添加方式：手動或自動