儀器由倒置式改為正置式，更符合人們的操作習(xí)慣； 應(yīng)用CMOS代替CCD，省去圖象卡并提高了質(zhì)量； 用低壓電源代替高壓電源，節(jié)省了儀器成本； 用國產(chǎn)的代替德國進(jìn)口壓電陶瓷，解決了關(guān)鍵部件的進(jìn)口難題； 增加了自動步距和亮度校正程序，同時增加了局部放大三維立體圖功能；
表面微觀不平深度測量范圍：130?1nm 測量的重復(fù)性：sRa≤0.5nm 測量精度：8nm 物鏡倍率：40X 數(shù)值孔徑：0.65 儀器視場 目視：f0.25mm 攝象：0.13X0.13mm 儀器放大倍數(shù) 目視：500X 攝象（計算機(jī)屏幕觀察）：2500X 接收器測量列陣：1000X1000 象素尺寸：5.2X5.2nm