能量散射X射線熒光光譜法（EDXRF）作為鍍層厚度測量和材料分析的方法，可用來定量和定性分析樣品的元素組成，也可用于鍍層和鍍層系統(tǒng)的厚度測量。無論是在實(shí)驗(yàn)室還是工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中，這一方法都能**勝任，并還可以與現(xiàn)代化設(shè)備一起發(fā)揮作用。

      EDXRF作為一種常用測試方法，有著其突出的優(yōu)勢。它幾乎可以測量所有工藝相關(guān)元素，并且工作時(shí)無損且不接觸樣品。測量時(shí)間一般在數(shù)秒鐘內(nèi)，很少多于一分鐘。通常不需要復(fù)制的樣品制備，即可進(jìn)行快速測量。利用該方法，可以同時(shí)測量均質(zhì)材料及鍍層的厚度和化學(xué)成分。不僅如此，EDXRF方法檢測各種類型樣品里的微量有害物質(zhì)。
此外，X射線熒光分析是一種清潔的測量方法，測量過程不使用任何化學(xué)制品。由于有著合理精巧的設(shè)計(jì)，X射線不會(huì)對(duì)操作人員和環(huán)境構(gòu)成任何威脅。

原理：
X射線熒光分析基于以下物理現(xiàn)象：樣品材料中的原子由于受到初級(jí)X射線轟擊，從而失去內(nèi)層軌道中的某些電子。失去電子所留下的空穴會(huì)被外層電子來填補(bǔ)，在填補(bǔ)的過程中，會(huì)產(chǎn)生每個(gè)元素特有的特征X射線熒光。接收器探測到該熒光射線后，便能提供樣品的材料組成等信息。

應(yīng)用：
由于能量色散X射線熒光光譜法可以分析材料成分和測量薄鍍層及鍍層系統(tǒng)，因而應(yīng)用廣泛：

1、在電子和半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)里，測量觸點(diǎn)上薄金，鉑和鎳層厚度或痕量分析。

2、在鐘表和珠寶行業(yè)或采礦精煉工業(yè)中，**分析貴金屬合金組分。
3、在質(zhì)量管控和來料檢驗(yàn)中，需要確保產(chǎn)品或零部件完全滿足材料設(shè)計(jì)規(guī)范。如在太陽能光伏電池產(chǎn)業(yè)中，光伏薄膜的成分組成和厚度大小決定了光伏電池的效率。在電鍍行業(yè)中，則需要測量大批量部件的厚度。

4、對(duì)于電子產(chǎn)品的生產(chǎn)者和采購者，檢驗(yàn)產(chǎn)品是否符合《限制在電子電氣產(chǎn)品中使用有害物質(zhì)的指令》（RoHS指令）也是十分關(guān)鍵的。
5、在玩具工業(yè)中，也需要有可靠的有害物質(zhì)檢測手段。

X射線熒光法（XRFA）的優(yōu)點(diǎn)：
1、快速無損的鍍層厚度測量（單層或多鍍層）

2、分析固態(tài)，粉末或液態(tài)樣品
3、有害物痕量分析

4、高精度和準(zhǔn)確度
5、十分廣泛的應(yīng)用

6、準(zhǔn)確測量基材是磁性和導(dǎo)電的材料
7、樣品制備非常簡單

8、測試方法**，沒有使用危害環(huán)境的化學(xué)制品
9、無耗品，物超所值