1. 應用

用于晶圓間對準的自動化鍵合對準機系統(tǒng)，用于研究和試生產(chǎn)。

2. 簡介

EVG620鍵合對準機系統(tǒng)以其高度的自動化和可靠性而聞名，專為zui大150 mm晶片尺寸的晶片間對準而設計。EV Group的鍵合對準機系統(tǒng)具有zui高的精度，靈活性和易用性，以及模塊化升級功能，并且已經(jīng)在眾多高通量生產(chǎn)環(huán)境中進行了認證。EVG的鍵合對準機系統(tǒng)的精度可滿足MEMS生產(chǎn)和3D集成應用等新興領域中zui苛刻的對準過程。

3. 特征

zui適合EVG®EVG 501®510和EVG®520 IS鍵合系統(tǒng)

支持zui大150 mm晶片尺寸的雙晶片或三晶片堆疊的鍵合對準

手動或電動對準臺

全電動高分辨率底面顯微鏡

視窗® 基于用戶界面

在不同晶圓尺寸和不同鍵合應用之間快速更換工具

選件

自動對準

紅外對準，用于內部基板鍵合對準

納米對準® 增強處理能力的軟件包

可與系統(tǒng)機架一起使用

升級到掩膜對準器的可能性

4. EVG620 BA鍵合對準機技術數(shù)據(jù)

4.1 常規(guī)系統(tǒng)配置

桌面

系統(tǒng)機架：可選

隔振：被動

4.2 對準方法

背面對準：±2 μm 3σ

透明對準：±1 μm 3σ

紅外校準：選件

4.3 對準階段

精密千分尺：手動

可選：電動千分尺

楔形補償：自動

4.4 基板/晶圓參數(shù)

尺寸：2英寸，3英寸，100毫米，150毫米

厚度：0.1-10毫米

zui高堆疊高度：10毫米

4.5 自動對準

可選的

4.6 處理系統(tǒng)

標準：3個卡帶站

可選：zui多5個站

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