NanoX-2000采用白光垂直掃描干涉(VSI)、移相干涉技術(shù)(PSI)和單色光垂直掃描干涉測(cè)量(CSI)，實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品表面粗糙度、臺(tái)階高度、表面輪廓、關(guān)鍵部位尺寸及其形貌特征的納米級(jí)三維精密測(cè)量。廣泛應(yīng)用于集成電路工藝、航空航天、太陽能電池工藝、材料表面工程、MEMS、超精密加工等領(lǐng)域。
 ● 測(cè)量精度重復(fù)性高

應(yīng)用領(lǐng)域：

國(guó)內(nèi)數(shù)家上市企業(yè)12寸產(chǎn)線配置NanoX-2000測(cè)試設(shè)備

NanoScopy 光機(jī)電一體化系統(tǒng)軟件：
       ● 美國(guó)硅谷研發(fā)、中英文自由切換
       ● 光機(jī)電一體化軟硬件集成
       ● 縮放、定位、平移、旋轉(zhuǎn)等三維圖像處理
       ● 自主設(shè)定測(cè)量閾值，三維處理自動(dòng)標(biāo)注
       ● 測(cè)量模式可根據(jù)需求自由切換
       ● 三維圖像支持高清打印
       ● 菜單式參數(shù)設(shè)置，一鍵式操作，人機(jī)界面?zhèn)€性直觀
       ● 個(gè)性化軟件應(yīng)用支持
       ● 可進(jìn)行軟件在線升級(jí)和遠(yuǎn)程支持服務(wù)

滿足您需求而設(shè)計(jì)的測(cè)量設(shè)備

覆蓋范圍廣： 兼容多種測(cè)量和觀察需求

保護(hù)性： 非接觸式光學(xué)干涉測(cè)量
可操作性：“一鍵式”操作更簡(jiǎn)單
智能化：特殊形狀智能計(jì)算特征參數(shù)
個(gè)性化： 定制化測(cè)試報(bào)告

更好用戶體驗(yàn)： 迅捷的售后服務(wù)，個(gè)性化應(yīng)用軟件支持

NanoX-2000/3000系列
測(cè)量模式	移相干涉（PSI）,白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）
樣品臺(tái)	150mm/200mm/300mm樣品臺(tái)（可選配） XY平移：± 25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5° 可選手動(dòng)/電動(dòng)樣品臺(tái)
CCD相機(jī)像素	標(biāo)配：1280x960
視場(chǎng)范圍	560x750um（10x物鏡） 具體視場(chǎng)范圍取決于所配物鏡及CCD相機(jī)
光學(xué)系統(tǒng)	同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)
光源	高效LED
Z方向聚焦	80mm手動(dòng)聚焦（可選電動(dòng)聚焦）
Z方向掃描范圍	精密PZT掃描（可選擇高精密機(jī)械掃描，拓展達(dá)10mm）
縱向分辨率	<0.1nm
RMS重復(fù)性*	0.005nm, 1σ
臺(tái)階測(cè)量**	準(zhǔn)確度≤0.75%；重復(fù)性≤0.1%，1σ
橫向分辨率	≥0.35um（100倍物鏡）
檢測(cè)速度	≤35um/sec，與所選的CCD和掃描模式有關(guān)

 

中國(guó)計(jì)量院認(rèn)證書：