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產(chǎn)品詳情
  • 產(chǎn)品名稱:EVG 晶圓封裝工藝設(shè)備

  • 產(chǎn)品型號:EVG610, EVG510, EVG520, EVG301, EVG805 等
  • 產(chǎn)品廠商:EVG
  • 產(chǎn)品價格:0
  • 折扣價格:0
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簡單介紹:
EV Group(簡稱EVG)于1980年建立,經(jīng)過近30年的發(fā)展,EVG 晶圓封裝工藝設(shè)備,已成為業(yè)界公認(rèn)的魁首,確立了應(yīng)用于 MEMS 微電機(jī)系統(tǒng)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體行業(yè)光阻工藝領(lǐng)域世界通行的晶圓封裝,晶圓對位和壓合的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG總部設(shè)在奧地利(Austria),建立了一個全球客戶支持網(wǎng)絡(luò)。通過與客戶廣泛和長期的合作,EVG晶圓封裝工藝設(shè)備產(chǎn)品可以全方位應(yīng)用于科技研發(fā)和全自動化生產(chǎn)。EVG是鍵合機(jī)生產(chǎn)廠家,岱美是他們的所有產(chǎn)品包括鍵合機(jī)和光刻機(jī)代理商。
詳情介紹:

        EV Group (簡稱EVG)1980年建立,經(jīng)過近30年的發(fā)展,現(xiàn)已成為業(yè)界公認(rèn)的晶圓工藝設(shè)備領(lǐng)域的技術(shù)和市場的魁首,確立了應(yīng)用于 MEMS 微電機(jī)系統(tǒng)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體行業(yè)光阻工藝領(lǐng)域的世界通行的晶圓對位和壓合的工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)。EVG有一無二的三“ I ”策略,發(fā)明-創(chuàng) 新-實施(Invent – Innovate – Implement),使得EVG能快速回應(yīng)新技術(shù)的發(fā)展,同時把新技術(shù)應(yīng)用于生產(chǎn)制造的挑戰(zhàn)中,并加快大量生產(chǎn)的進(jìn)度。EVG總部設(shè)在奧地利(Austria),建立了一個全球客戶支持網(wǎng)絡(luò)。通過與客戶廣泛和長期的合作,EVG的成套設(shè)備產(chǎn)品可以全方位應(yīng)用于科技研發(fā)和全自動化生產(chǎn)。EVG是鍵合機(jī)生產(chǎn)廠家,岱美是他們的所有產(chǎn)品包括鍵合機(jī)和光刻機(jī)代理商。

        EVG在全球范圍內(nèi)供應(yīng)以下機(jī)臺設(shè)備:

n  晶圓鍵合機(jī)(如EVG501,EVG510,EVG520等)

n  晶圓光刻機(jī),晶圓對位機(jī)(如EVG610,EVG620等)

n  涂膠機(jī),顯影機(jī)(EVG101)

n  暫鍵合/剝離機(jī)(如EVG805等)

n  晶圓清洗機(jī)(EVG301)

n  檢測系統(tǒng)(EVG40系列)

        EVG的技術(shù)可以應(yīng)用于以下行業(yè):

n  先進(jìn)封裝,三維堆疊(3D集成)

n  微電機(jī)系統(tǒng) MEMS

n  絕緣體上的硅結(jié)構(gòu) SOI

n  半導(dǎo)體集成電路,基于硅的功率器件

n  納米技術(shù)

        EVG可以提供以下多種具體的制程技術(shù):

n  SOI的基片鍵合

n  基片清潔

n  等離子活化

n  旋轉(zhuǎn)式或噴霧式涂光阻

n  對位檢定

n  接近式光刻

n  納米壓印光刻

n  光阻顯影

n  鍵合對位

n  晶圓鍵合

n  暫鍵合/剝離

n  芯片-晶圓鍵合


  對應(yīng)于上面所提到的各種制程技術(shù),EVG可以在全球范圍內(nèi)供應(yīng)相對應(yīng)的各種系列的機(jī)臺設(shè)備,下表明確列出了部分機(jī)臺設(shè)備:

如果想了解到更多關(guān)于EVG的產(chǎn)品技術(shù)和參數(shù)等詳細(xì)信息,請點(diǎn)擊這里


EVG 晶圓封裝工藝設(shè)備
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