其可測(cè)量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測(cè)量精度高達(dá)1埃，測(cè)量穩(wěn)定性高達(dá)0.7埃，測(cè)量時(shí)間只需一到二秒, 并有手動(dòng)及自動(dòng)機(jī)型可選?？蓱?yīng)用領(lǐng)域包括：生物醫(yī)學(xué)（Biomedical）, 液晶顯示(Displays), 硬涂層(Hard coats), 金屬膜(Metal), 眼鏡涂層(Ophthalmic) , 聚對(duì)二甲笨(Parylene), 電路板(PCBs&PWBs), 多孔硅(Porous Silicon), 光阻材料(Thick Resist),半導(dǎo)體材料(Semiconductors) , 太陽(yáng)光伏(Solar photovoltaics), 真空鍍層(Vacuum Coatings), 圈筒檢查(Web inspection applications)等。

通過Filmetrics膜厚測(cè)量?jī)xzui新反射式光譜測(cè)量技術(shù),zui多4層透明薄膜厚度、 n、k值及粗糙度能在數(shù)秒鐘測(cè)得。其應(yīng)用廣泛，例如 :
半導(dǎo)體工業(yè) : 光阻、氧化物、氮化物。
LCD工業(yè) : 間距 (cell gaps)，ito電極、polyimide 保護(hù)膜。
光電鍍膜應(yīng)用 : 硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。

極易操作、快速、準(zhǔn)確、機(jī)身輕巧及價(jià)格便宜為其主要優(yōu)點(diǎn)，F(xiàn)ilmetrics提供以下型號(hào)以供選擇:

F20 : 這簡(jiǎn)單入門型號(hào)有三種不同波長(zhǎng)選擇(由220nm紫外線區(qū) 到1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型，可以實(shí)現(xiàn)反射、膜厚、n、k值測(cè)量。

F30:這型號(hào)可安裝在任何真空鍍膜機(jī)腔體外的窗口。可實(shí)時(shí)監(jiān)控長(zhǎng)晶速度、實(shí)時(shí)提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長(zhǎng)或固定測(cè)量時(shí)間間距。更可加裝到三個(gè)探頭，同時(shí)測(cè)量三個(gè)樣品，具紫外線區(qū)或標(biāo)準(zhǔn)波長(zhǎng)可供選擇。

F40:這型號(hào)安裝在任何顯微鏡外，可提供zui小5um光點(diǎn)(100倍放大倍數(shù))來測(cè)量微小樣品。

F50:這型號(hào)配備全自動(dòng)XY工作臺(tái)，由8"x8"到18"x18"或客戶提供所需尺寸均可。通過快速掃瞄功能，可取得整片樣品厚度分布情況(mapping)。
 
F70:僅通過在F20基本平臺(tái)上增加鏡頭，使用Filmetricszui新的顏色編碼厚度測(cè)量法（CTM），把設(shè)備的測(cè)量范圍極大的拓展到3.5mm。

F10-RT：在F20實(shí)現(xiàn)反射率跟穿透率的同時(shí)測(cè)量，特殊光源設(shè)計(jì)特別適用于透明基底樣品的測(cè)量。

PARTS：在垂直入射光源基礎(chǔ)上增加70o光源，特別適用于超薄膜層厚度和n、k值測(cè)量。

                                                                                                                                      

高 級(jí)膜厚測(cè)量?jī)x系統(tǒng)F20

半導(dǎo)體制造	液晶顯示器	光學(xué)鍍膜
photoresist光刻膠 oxides氧化物 nitrides氮化物	cell gaps液晶間隙 polyimide聚酰亞胺 ito納米銦錫金屬氧化物	hardness coatings硬鍍膜 anti-reflection coatings增透鍍膜 filters濾光