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產(chǎn)品圖片	產(chǎn)品名稱/型號(hào)	產(chǎn)品簡(jiǎn)單介紹
	MPD-1單盤臺(tái)式金相磨拋機(jī) MPD-1	MPD-1單盤臺(tái)式金相磨拋機(jī)（以下簡(jiǎn)稱磨拋機(jī)）是一種高效能的設(shè)備，它利用各種不同粒度的耐水研磨金相砂紙及拋光材料，對(duì)各種金屬及其合金試樣以及各種巖相試樣進(jìn)行研磨和拋光。
	MPD-2雙盤臺(tái)式金相磨拋機(jī) MPD-2	MPD-2雙盤臺(tái)式金相磨拋機(jī)（以下簡(jiǎn)稱磨拋機(jī)）是一種研磨設(shè)備，它利用各種不同粒度的耐水研磨金相砂紙，對(duì)各種金屬及其合金試樣以及各種巖相試樣進(jìn)行粗磨、精磨、干磨、濕磨等各道研磨工序，作拋光前的粗加工工序，同時(shí)可作拋光試樣?？梢淮涡酝瓿赡伖ぷ?，起到一機(jī)多用的好處。
	YM-1單盤臺(tái)式金相預(yù)磨機(jī) YM-1	YM-1單盤臺(tái)式金相預(yù)磨機(jī)（簡(jiǎn)稱預(yù)磨機(jī)），是一種濕式磨光機(jī)，它利用各種不同粒度的金相耐水砂紙，對(duì)各種金屬及其合金的試樣進(jìn)行磨光。采用本預(yù)磨機(jī)，除以機(jī)械磨光代替手工操作提高制備試樣的效率以外，還能完全除去試樣切割過(guò)程中產(chǎn)生的塑性變形和表面加熱痕跡，供進(jìn)一步拋光后進(jìn)行組織的顯微測(cè)定
	YM-2雙盤臺(tái)式金相預(yù)磨機(jī) YM-2	YM-2雙盤臺(tái)式金相預(yù)磨機(jī)（簡(jiǎn)稱預(yù)磨機(jī)），是一種濕式磨光機(jī)，它利用各種不同粒度的金相耐水砂紙，對(duì)各種金屬及其合金的試樣進(jìn)行磨光。采用本預(yù)磨機(jī)，除以機(jī)械磨光代替手工操作提高制備試樣的效率以外，還能完全除去試樣切割過(guò)程中產(chǎn)生的塑性變形和表面加熱痕跡，供進(jìn)一步拋光后進(jìn)行組織的顯微測(cè)定。
	單盤磨拋機(jī)MP-1B MP-1B	單盤磨拋機(jī)MP-1B :拋光盤直徑：φ203mm 轉(zhuǎn)速50-1000轉(zhuǎn)/分;是用戶用來(lái)制作金相試樣必不可少的設(shè)備。本機(jī)帶有冷卻裝置，可以在預(yù)磨時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。
	BG-32砂帶磨樣機(jī) BG-32	BG-32砂帶磨樣機(jī):廣泛適用于企事業(yè)單位、冶金機(jī)械企業(yè)、科研院（所）的理化檢驗(yàn)測(cè)試中心、金相檢驗(yàn)室、光譜室等。依據(jù)國(guó)際先進(jìn)制樣方法，精心設(shè)計(jì)制造的又一款新型制樣設(shè)備，采用砂帶進(jìn)行研磨，根據(jù)需要可隨時(shí)更換不同號(hào)數(shù)砂帶，更換便捷
	金相試樣磨平機(jī)MPJ-35 MPJ-35	金相試樣磨平機(jī)MPJ-35 ：用于試樣表面的粗磨工序。采用濕式磨削，可以冷卻試樣表面，保證磨削效果，同時(shí)把研磨顆粒碎片帶走，大幅降低環(huán)境污染。該機(jī)操作簡(jiǎn)單，使用**可靠是工礦企業(yè)、大專院校試驗(yàn)室理想的制樣設(shè)備之一。
	雙盤金相磨拋機(jī)MP-2B MP-2B	雙盤金相磨拋機(jī)MP-2B ：本機(jī)通過(guò)變頻器調(diào)速，可直接獲得50~1000轉(zhuǎn)/分鐘之間的轉(zhuǎn)速，從而使本機(jī)具有更加廣泛的應(yīng)用性。是用戶用來(lái)制作金相試樣必不可少的設(shè)備。拋光盤直徑：φ203mm 轉(zhuǎn)速50-1000轉(zhuǎn)/分；工作電壓：220V 50HZ
	磨拋機(jī)MoPao2D MoPao2D	磨拋機(jī)MoPao2D ：本機(jī)具有150轉(zhuǎn)／分鐘和300轉(zhuǎn)／分鐘兩種轉(zhuǎn)速，從而使本機(jī)具有更加廣泛的應(yīng)用性，是用戶用來(lái)制作金相試樣必不可少的設(shè)備。本機(jī)帶有冷卻裝置，可以在研磨拋光時(shí)對(duì)試樣進(jìn)行冷卻，以防止因試樣過(guò)熱而破壞金相組織。該機(jī)使用方便、**可靠，是工廠、科研單位以及大專院校實(shí)驗(yàn)室的理想制樣設(shè)備。磨拋盤直徑：Φ203mm
	單盤預(yù)磨機(jī)M-1 M-1	單盤預(yù)磨機(jī)M-1：適用于對(duì)金相試樣進(jìn)行粗磨、半精磨、精磨操作，是用戶用來(lái)制作金相試樣必不可少的設(shè)備。研磨盤直徑： φ230mm
	磨拋頭MPT—Ⅰ MPT—Ⅰ MPT—ⅠⅠ	磨拋頭MPT—ⅠMPT—ⅠⅠ作用在各試樣上的力均可分別控制，因此每次可進(jìn)行1個(gè)、2個(gè)或3個(gè)試樣的制備，而不需要使用空試樣或“假”試樣。

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