DNK大日本科研株式會社;曝光機

日期：2025-11-11 07:31

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摘要：?實驗?研究用曝光裝置實驗?研究?小批量生產(chǎn)用 ?化合物半導(dǎo)體用曝光裝置 (Mask Aligner) 適合LED、LD、Packaging生產(chǎn)的曝光裝置 ?適用于?200mm 和?300mm的曝光機適用于?200mm 和?300mm的曝光機 ?無掩膜曝光裝置無掩膜曝光裝置MX系列 ?MEMS用曝光裝置適合使用Moving UV mask法的MEMS生產(chǎn)的曝光裝置 ?膠片用曝光裝置適合軟性基板和Roll to Roll的曝光裝置 ?FPD用曝光裝置適合平面顯示器生產(chǎn)的曝光裝置 ?其他量產(chǎn)用曝光裝置適合液晶、陶瓷電容器、熱感應(yīng)打印頭的曝光裝置 ?基板用貼合裝置封止裝置ES系列 ?Desktop Mask Aligner 緊湊型設(shè)計，可在桌面上安裝使用。

DNK大日本科研株式會社;曝光機自創(chuàng)業(yè)以來,一貫堅持「****」「客戶至上」,努力制造滿足客戶需求的產(chǎn)品。
其間,承蒙眾多客戶的悉心指導(dǎo)和惠顧而得以今日堅實的成長。
本公司一直以生產(chǎn)融合了光學(xué)?精密機械?電子控制?各軟件技術(shù)的光機電一體化工程裝置及液晶顯示屏制造裝置為主發(fā)展至今。現(xiàn)在,全體員工正為開發(fā)面向新一代的高新技術(shù)產(chǎn)品而激情高昂。

此外,DNK大日本科研株式會社;曝光機還遵循ISO-9001的規(guī)定,進行嚴格的質(zhì)量管理。

今后,對所有的產(chǎn)品,DNK大日本科研株式會社;曝光機都將以比現(xiàn)在更進一步的「高品質(zhì)」、「短交貨期」和「低成本」為目標,并以制造可靈活滿足客戶需求的產(chǎn)品而奮進。

希望得到大家更大的支持和關(guān)愛。

商號：	株式會社大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.)
總部：	1, Kuguso, Terado-cho, Mukou-city, Kyoto 617-0002, Japan
設(shè)立：	1967年2月3日
法人代表：	代表取締役社長　岡本浩志
資本金：	5000萬日元
結(jié)算期：	4月
員工數(shù)：	132名男115名、女17名 (截止到2025年8月)
事業(yè)內(nèi)容：	?精密機械的設(shè)計?制造?銷售 ?理化學(xué)儀器?測量儀器?光學(xué)儀器的設(shè)計?制造?銷售
董事會：	代表取締役社長　　　　　　岡本浩志董事　　　　　　　　　　　杉原正規(guī) 董事　　　　　　　　　　　島田崇司

2025年	第8.5H代卷對卷（Roll to Roll）雙面曝光機的開發(fā)和發(fā)貨開始
2023年	東工廠廠房內(nèi)增建東工廠南樓
2021年	Desktop Mask Aligner 的開發(fā)以及開始銷售
2020年	8英寸晶圓用新型掩膜對準曝裝置（Mask Aligner）的開發(fā)以及開始銷售
2019年	榮獲SCREEN GA2019 Best Supplier Award
2018年	LED LAMP HOUSE搭載曝光機開始銷售
2017年	將INDEX Technologies Inc. 吸收兼并
2015年	東京辦事處開設(shè)
2014年	薄膜Roll to Roll雙面曝光裝置的開發(fā) 1μm型無掩膜曝光裝置的開發(fā)
2013年	晶片TITLER轉(zhuǎn)動裝置的開發(fā)并開始供貨
2012年	電感線圈用曝光機的開發(fā)以及開始供貨
2011年	LLED、LD用Stepper（投影曝光裝置）的開發(fā) 東工廠屋頂上設(shè)置太陽能發(fā)電系統(tǒng)
2010年	開始研發(fā)和供應(yīng)新型圖像處理裝置(GA-LITE) 3μm·5μm型無掩膜曝光裝置的開發(fā)
2009年	榮獲京都右京稅務(wù)署頒發(fā)的優(yōu)良申告法人持續(xù)再表彰獎取得激光修復(fù)裝置的制造?銷售權(quán)
2008年	研發(fā)MUM曝光裝置,榮獲經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)省頒發(fā)的關(guān)西領(lǐng)跑者大獎開始研發(fā)和供應(yīng)TOUCH PANEL(觸摸屏)用曝光機
2007年	研發(fā)三維微細加工(MEMS)用曝光機
2006年	以資本金2億4千萬日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南區(qū)合資設(shè)立 INDEX Technologies Inc.,開始研發(fā)無掩膜曝光機 KES?環(huán)境管理體系階段2登錄。
2005年	在京都市伏見區(qū)橫大路天王后開設(shè)橫大路工廠
2004年	在東工廠廠區(qū)內(nèi)增設(shè)東**工廠(對應(yīng)大型設(shè)備)
2003年	在京都南區(qū)久世筑山町445番地2開設(shè)久世工廠開始研發(fā)和供應(yīng)PWB用Roll to Roll曝光機開始研發(fā)和供應(yīng)LED、LD用曝光機
2002年	開始研發(fā)和供應(yīng)有機EL用封止裝置研發(fā)第5代用2軸步進曝光機
2001年	開始研發(fā)和供應(yīng)有機EL用曝光機
2000年	在韓國?臺灣設(shè)立服務(wù)網(wǎng)點
1999年	取得ISO9001認證
1998年	開始研發(fā)和供應(yīng)印刷電路板量產(chǎn)用曝光機開始研發(fā)和供應(yīng)直立型步進曝光機
1997年	在國內(nèi)**周期間榮獲勞動大臣頒發(fā)的進步獎榮獲京都右京稅務(wù)署頒發(fā)的優(yōu)良申告法人持續(xù)再表彰獎開始研發(fā)和供應(yīng)PDP用曝光機
1996年	開始供應(yīng)立式大型基板用近接曝光機在東工廠1F設(shè)置適應(yīng)大型機的無塵車間開始啟用公司內(nèi)部LAN(局域網(wǎng))
1994年	開始研發(fā)LCD量產(chǎn)用第3期生產(chǎn)線裝置
1993年	開始供應(yīng)基板TITLER 開始供應(yīng)線幅測量機
1992年	舉行創(chuàng)立25周年紀念儀式榮獲京都右京稅務(wù)署長頒發(fā)的優(yōu)良申告法人表彰獎正式導(dǎo)入CAD
1991年	在東工廠2F設(shè)置無塵車間
1990年	開始供應(yīng)裝配有變形裝載臺的大型基板用近接曝光機
1989年	開始供應(yīng)裝載有間隙傳感器的非接觸大型基板用近接曝光機在京都市南區(qū)久世殿城町190番地1新設(shè)東工廠開始供應(yīng)二維CCD傳感器方式自動對位曝光機
1988年	完成間隙傳感器開始供應(yīng)混合印刷電路板基板用步進曝光機
1987年	舉行創(chuàng)立20周年紀念儀式在國內(nèi)**周期間榮獲京都勞動標準局長頒發(fā)的進步獎
1986年	完成TAB系統(tǒng)用直立型?高性能自動信息處理器
1985年	完成二維CCD傳感器方式定位裝置
1984年	開始供應(yīng)LCD彩色濾光片用自動對位曝光機開始供應(yīng)裝載有新方式大型光源的曝光機
1983年	LCD用曝光機的大型化
1982年	舉行創(chuàng)立15周年紀念儀式開始供應(yīng)LCD用自動對位曝光機在總部工廠內(nèi)設(shè)置無塵車間開始供應(yīng)熱感應(yīng)打印頭用自動對位曝光機
1981年	在京都市西京區(qū)大原野石見町28番地1開設(shè)大原野工廠完成線形傳感器方式自動對位裝置
1980年	著手研發(fā)大型掩膜自動制圖機
1979年	在總部廠內(nèi)增設(shè)南館在總部工廠內(nèi)導(dǎo)入辦公用電腦,著手推進辦公自動化
1977年	開始供應(yīng)熱感應(yīng)打印頭用掃描曝光機開始供應(yīng)LCD用曝光機開始供應(yīng)測試信息處理器
1976年	完成新方式光源（橢圓鏡-復(fù)眼透鏡方式)
1975年	開始供應(yīng)TAB曝光機
1974年	將總部及工廠搬遷到京都府向日市寺戸町久久相1番地開始供應(yīng)真空密著式曝光機
1973年	開始供應(yīng)新型精密縮小相機?自動接觸打印機
1971年	開始供應(yīng)熱感應(yīng)打印頭試制用對位曝光機資本金增加到5,000萬日元
1970年	著手研發(fā)半導(dǎo)體用掩膜自動制圖機等資本金增加到4,000萬日元
1969年	開始供應(yīng)四筒式全自動縮小多面洗印照相機
1968年	開始供應(yīng)半導(dǎo)體用曝光機械?掩膜制作用機械?二維比較測量儀器資本金增加到2,500萬日元
1967年	以250萬日元的資本金創(chuàng)辦了株式會社大日本科研，總部設(shè)立在京都市上京區(qū)五辻通智恵光院西入

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