光學(xué)鍍膜是沉積在光學(xué)元件（例如透鏡和反射鏡）上的薄層材料，用于改變其反射和透射特性。這些鍍膜對于控制光與光學(xué)系統(tǒng)的相互作用至關(guān)重要，可以增強(qiáng)或抑制特定波長或偏振態(tài)。
薄膜干涉
定義和基本概念
薄膜干涉是光學(xué)鍍膜背后的基本原理。當(dāng)光線照射到材料薄膜時，一部分光線會從薄膜的上表面反射，而其余光線則會透射進(jìn)入薄膜并從薄膜的下表面（薄膜與基底之間的界面）反射。兩束反射波會相互重疊和干涉，根據(jù)它們的相位差產(chǎn)生相長干涉或相消干涉。重要的是，這種干涉與偏振相關(guān)：由于光的反射和透射系數(shù)不同，s偏振（垂直）和p偏振（平行）分量的干涉行為會有所不同。薄膜干涉也與波長相關(guān)，這就是為什么薄膜在白光下常常呈現(xiàn)出彩虹色的原因。
(Pedrotti et al., 2017).
上圖展示了斜入射下的薄膜干涉。入射光線（角度 ）分成兩條路徑：從頂面反射并折射到薄膜中（角度 ），然后從底面反射并以與**條反射光線平行的方式從薄膜中射出。薄膜的折射率為 ，厚度為 ，而周圍介質(zhì)的折射率為 。反射過程中的光程差和相移決定了干涉結(jié)果，干涉結(jié)果隨偏振態(tài)和波長而變化。
數(shù)學(xué)描述
兩束反射波之間的相位差 定義為：
其中：
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為薄膜內(nèi)部的折射角，根據(jù)斯涅爾定律，它與入射角 的關(guān)系為：
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為反射時的相位變化。當(dāng)光從折射率較高的介質(zhì)反射時，會發(fā)生 相移。
相長干涉和相消干涉
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相長干涉發(fā)生在相位差導(dǎo)致反射光增強(qiáng)時。這種情況發(fā)生在：
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相消干涉發(fā)生在相位差導(dǎo)致反射光抵消時。這種情況發(fā)生在：
由于反射系數(shù)和相移與偏振相關(guān)，因此在s偏振光和p偏振光中，相長干涉或相消干涉的具體條件可能有所不同。這意味著薄膜干涉可以選擇性地增強(qiáng)或抑制特定波長下的特定偏振。
通過適當(dāng)設(shè)計薄膜厚度和折射率，可以增強(qiáng)或抑制特定波長的反射或透射。
在光學(xué)鍍膜中的重要性
薄膜干涉技術(shù)可以**控制鍍膜的光學(xué)特性。這種控制在以下應(yīng)用中至關(guān)重要：
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減反射鍍膜：*大限度地減少反射，從而提高光學(xué)表面的透射率。
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高反射鍍膜：*大限度地提高反射率，用于反射鏡和激光腔。
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四分之一波長和半波長涂層
定義和基本概念
四分之一波長 和半波長 涂層是特殊設(shè)計，其中涂層的光學(xué)厚度是目標(biāo)波長四分之一或二分之一的倍數(shù)。這些設(shè)計創(chuàng)造了特定的干涉條件來增強(qiáng)或抑制反射。
其中 是折射率， 是物理厚度。
四分之一波長涂層
在四分之一波長涂層中，光學(xué)厚度為：
這種設(shè)計會對目標(biāo)波長的反射光產(chǎn)生相消干涉，從而減少反射并增強(qiáng)透射。它常用于減反射涂層。
數(shù)學(xué)解釋
四分之一波長層的相位差為：
假設(shè)正入射角為，反射中會發(fā)生相消干涉。
半波涂層
半波涂層的光學(xué)厚度為：
這種結(jié)構(gòu)會使反射光發(fā)生相長干涉，從而增強(qiáng)目標(biāo)波長的反射。高反射涂層通常使用半波層。
數(shù)學(xué)解釋
半波層的相位差為：
反射中??發(fā)生相長干涉。
在光學(xué)鍍膜中的重要性
通過堆疊多個高低折射率交替的四分之一波和半波膜，可以創(chuàng)建復(fù)雜的干涉圖樣，從而實(shí)現(xiàn)所需的光譜特性。該技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)以下目標(biāo)：
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寬帶抗反射：使用多層膜層在較寬的波長范圍內(nèi)減少反射。
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介質(zhì)鏡：創(chuàng)建在特定波長范圍內(nèi)具有高反射率的反射鏡。
多層鍍膜
定義和基本概念
多層鍍膜由多層折射率和厚度不同的薄膜組成。通過精心設(shè)計這些膜層的順序和特性，光學(xué)鍍膜可以實(shí)現(xiàn)高度特定的反射和透射特性。
設(shè)計原則
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交替鍍膜：通常，高折射率和低折射率的膜層交替放置以增強(qiáng)干涉效果。
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光學(xué)厚度變化：調(diào)整每層的厚度可以控制受影響的波長。
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計算優(yōu)化：現(xiàn)代設(shè)計通常使用計算方法來優(yōu)化膜層參數(shù)，以實(shí)現(xiàn)所需的光譜特性。
數(shù)學(xué)建模
多層鍍膜的整體效果取決于所有膜層的累積干涉效應(yīng)。這需要使用菲涅爾方程計算每個界面處反射波和透射波的振幅和相位，并使用矩陣方法（例如特征矩陣法）將它們組合起來。
特征矩陣法
對于每一層 i，特征矩陣 Mi 定義為：
其中：
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取決于偏振：
對于 TE（s 偏振）：
對于 TM（p 偏振）：
整個系統(tǒng)矩陣 是各個矩陣的乘積：
通過 可以計算出反射和透射系數(shù)。
在光學(xué)鍍膜中的重要性
多層鍍膜可以實(shí)現(xiàn)：
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復(fù)雜的光學(xué)功能：為特定應(yīng)用設(shè)計鍍膜，例如陷波濾光片、二向色鏡和邊緣濾光片。
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鍍膜類型
光學(xué)鍍膜的設(shè)計用途多種多樣，每種鍍膜都利用薄膜干涉和多層結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)特定的光學(xué)功能。
減反射 (AR) 鍍膜
用途
減少光學(xué)表面的反射，增加光線通過透鏡和其他組件的透射率。
設(shè)計原則
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單層增透膜：使用折射率為 的四分之一波長材料層，該材料滿足以下公式：
其中 為基底折射率， 為入射介質(zhì)（通常為空氣）的折射率。
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多層增透膜：利用多層材料實(shí)現(xiàn)寬帶增透性能。
高反射 (HR) 膜
用途
*大限度地提高反射鏡和激光應(yīng)用中特定波長的反射率。
設(shè)計原則
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介質(zhì)鏡：采用高折射率和低折射率材料（通常為四分之一波長層）交替層壓而成，通過相長干涉實(shí)現(xiàn)高反射率。
分光膜
用途
按指定比例將入射光分成反射光和透射光。
設(shè)計原則
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部分反射膜：旨在在特定波長范圍內(nèi)實(shí)現(xiàn)所需的反射率（例如 50%）。
偏振膜
用途
根據(jù)光線的偏振狀態(tài)選擇性地透射或反射光線。
設(shè)計原則
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多層設(shè)計：采用各向異性材料或有利于某一偏振方向的層結(jié)構(gòu)。
帶通濾光片
用途
透射特定波長范圍的光，同時阻擋其他波長的光。
設(shè)計原則
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干涉濾光片：使用多層結(jié)構(gòu)在目標(biāo)波長處產(chǎn)生相長干涉，在其他波長處產(chǎn)生相消干涉。
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腔體濾波器：在反射疊層之間加入間隔層，形成光學(xué)腔體。