LINTEC林泰克 高性能數(shù)字通訊質(zhì)量流量控制器 MC-3452L
LINTEC林泰克 高性能數(shù)字通訊質(zhì)量流量控制器 MC-3452L

簡 介
MC-3000L系列是可以確保精度于 ±1%S.P.(設(shè)定值)范圍內(nèi)的高性能數(shù)字通訊質(zhì)量流量控制器
特 點
確保精度于±1%S.P.(設(shè)定值)范圍內(nèi)采用標準 RS-485 數(shù)字通訊接口
搭配 LINTEC **的環(huán)境溫度補足式質(zhì)流傳感器勺置微處理器提高處理效能
控制閥由具有極小閉死容積的隔膜閥構(gòu)造所組成采用高速度，高性能的壓電控制閥
使用耐久性高、密閉性高的金屬密封件,維護性提高采用金屬外殼以及各種濾波器，在高磁噪音及直流磁場的環(huán)境下亦能維持其安定性

高性能數(shù)字通訊質(zhì)量流量控制器MC-3000L
可確保精度范圍在±1%S.P.（設(shè)定值）的高性能數(shù)字通訊質(zhì)量流量控制器。
搭配LINTEC**的環(huán)境溫度補足式質(zhì)流傳感器，即使在低溫下也能實現(xiàn)高精度的流量測量。 它可抑制由于傳感器受熱而導致的老化劣化，可以對臭氧等高度可降解的氣體進行流量控制。
可搭載的選配規(guī)格包括：液化氣體、小流量 F.S.、大流量范圍、表面實裝和接頭名稱。
特點
精度范圍±1%S.P.
使用溫度5~50℃
金屬密封件
無塵生產(chǎn)（粒子標準監(jiān)控）
周圍溫度補償式傳感器
RS-485數(shù)字通訊接口
選配規(guī)格
小流量F.S.
液化氣體
大流量范圍
使用范例
半導體生產(chǎn)前端工藝
由于CVD（化學氣相沉積法）、ALD（原子層沉積法）鍍膜設(shè)備和蝕刻設(shè)備中使用高活性氣體，因此具有高耐腐蝕性金屬密封的氣體質(zhì)量流量控制器至關(guān)重要。
此外，前驅(qū)體在常溫常壓下含有大量液化氣體，因此具有耐熱性且不易液化的閥門結(jié)構(gòu)很重要。 選擇LINTEC高性能質(zhì)量流量控制器MC-3000L，則可選配【液化氣體】【*高工作溫度50°C（可選至55°C）】等相應(yīng)規(guī)格。
分析設(shè)備
分析設(shè)備可能需要控制極小流量，但一般質(zhì)量流量控制器的*小F.S.為5SCCM，因此無法對應(yīng)。 MC-3000L高精度質(zhì)量流量控制器可選配F.S.1SCCM或更低流量范圍。
此外，高性能質(zhì)量流量控制器MC-3000L還標配死體積較小的隔膜閥。