勻膠機：顧名思義,是把膠均勻地涂在基片上的一種機器。方法很多，有滾涂，浸涂，噴涂，旋涂等，各有優(yōu)缺點。不同的應用采取不同的涂膠方法。其中旋涂用得*多，那是因為它能取得*高的均勻性，是半導體微電子領域里光刻工藝的通用的方法。

     勻膠機主要關鍵元器件由美國進口，整機裝配在國內安裝調試完成。該機2002年已通過CE認證，其抗干擾以及干擾性都較其他非CE產品要好。該性能的具體表現為：當該勻膠機在運轉時，它不影響同處一室的其他設備，以保證其他設備的正常使用（如指針不漂移等受干擾后有影響的反應）；同時它本身也不會受到其他同處一室的設備運轉而產生的磁場的干擾，從而保證實驗效果的穩(wěn)定性和可靠性。

    工作原理是高速旋轉基片，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻的涂在基片上，勻膠機常用于各種溶膠凝膠（Sol-Gel）實驗中的薄膜制作，厚度視不同膠液和基片間的粘滯系數而不同，也和旋轉速度及時間有關。可以設定多達20個程序段來存儲不同材料的制備過程，每個程序段都能設定51步速度改變，當前參數具斷電保護功能。