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X射線熒光光譜儀的組成和用途
X射線熒光光譜儀的主要組成部分是一次X射線源和樣品室、分光晶體和平行光管、檢測器和記錄顯示儀器。一次X射線源用X光管,它產(chǎn)生的一次X射線轟擊樣品表面,使樣品激發(fā)出二次X射線。二次X射線經(jīng)平行光管變成一束平行光以后，投射到與平行光束呈夾角θ的分光晶體晶面上。射線在分光晶體面上的反射角與平行光束的夾角為2θ。分光晶體在分析過程中是回轉(zhuǎn)的，即θ是連續(xù)變化的，θ的變化會使反射光的波長隨之變化，故2θ的具體值是定性分析的依據(jù)。這種變化波長的反射線投射到與分光晶體聯(lián)動的檢測器上，檢測器便輸出一個與平面分光晶體反射線強度成比例的信號，它是定量分析的依據(jù)。
記錄顯示儀表的記錄紙移動的距離與2θ有關，所以記錄下來的曲線就是熒光光譜圖，其橫坐標是波長，縱坐標是光強。分析光譜圖就可以得到定性分析和定量分析結(jié)果。
X射線熒光光譜儀的主要用途：
具有重現(xiàn)性好，測量速度快，靈敏度高的特點。能分析F(9)～U(92)之間所有元素。樣品可以是固體、粉末、熔融片，液體等，分析對象適用于煉鋼、有色金屬、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行業(yè)樣品。無標半定量方法可以對各種形狀樣品定性分析，并能給出半定量結(jié)果，結(jié)果準確度對某些樣品可以接近定量水平，分析時間短。薄膜分析軟件FP-MULT1能作鍍層分析，薄膜分析。測量樣品的*大尺寸要求為直徑51mm,高40mm。

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