產(chǎn)品簡介

脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation，PLA），是一種利用激光對物體進(jìn)行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。我公司依據(jù)實驗要求設(shè)計制作該款設(shè)備以適應(yīng)各類薄膜研究的需要。
    我公司供應(yīng)的產(chǎn)品符合國家有關(guān)環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購商ISO14000的環(huán)境體系要求

產(chǎn)品詳細(xì)信息

產(chǎn)品型號：	脈沖激光沉積PLD
產(chǎn)品簡介：	脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laserablation，PLA），是一種利用激光對物體進(jìn)行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。我公司依據(jù)實驗要求設(shè)計制作該款設(shè)備以適應(yīng)各類薄膜研究的需要。     我公司供應(yīng)的產(chǎn)品符合國家有關(guān)環(huán)保法律法規(guī)的規(guī)定（含采購商ISO14000的環(huán)境體系要求），不會造成環(huán)境污染；     該產(chǎn)品符合含采購商OHSMS18000職業(yè)**健康管理體系標(biāo)準(zhǔn)的要求，不會對接觸產(chǎn)品的人員健康造成傷害！
主要特點：	1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性； 2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻； 3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制； 4. 發(fā)展?jié)摿薮?，具有極大的兼容性； 5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。
技術(shù)參數(shù)：	電源：單相50/60Hz 220v    加熱(功率)電源：2.5KW  16A 控制柜電源空氣開關(guān)：25A空氣開關(guān)  薄膜生長室溫度：室溫1200℃ 靶材轉(zhuǎn)速：轉(zhuǎn)速20-30轉(zhuǎn)/分 質(zhì)量流量控制器的標(biāo)定：氮氣 質(zhì)量流量控制器的流量范圍：0-500sccm 機(jī)械泵抽氣速率：4L/S 薄膜生長室真空度：5min 約40mtor，20min 約15mtor，極限真空10mtor 爐腔內(nèi)徑：45mm 極熱溫區(qū)：200mm 恒溫區(qū)長度：約100mm
產(chǎn)品規(guī)格：	凈重：
可選配件：	103高真空系統(tǒng)、供氣（混氣）系統(tǒng)、各種高純氧化鋁坩堝及石英坩堝、雙級旋片機(jī)械泵、高純度剛玉及石英爐管等
產(chǎn)品證書：	CE認(rèn)證